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HWN-P纳米激光直写系统
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公司简介:
苏州华维纳纳米科技有限公司是在"苏州工业园区创业人才项目"的支持下，于2011年注册成立的高科技创新型公司，公司由归国和国内的高层次人才组成，公司设有博士后流动站。公司曾先后获得国家科技部（国家重大大科学仪器设备开发专项)和姑苏、江苏省双创人才、以及苏州x-nano大科学装置等项目支持，并于2012年6月 完成首轮风险融资，并成功研发出拥有自主知识产权的三大系列新型纳米激光光刻系统，2015年被认定为高新技术企业。
公司近年来，不断加大研发力度，已经定型了LDW-P 和LDW-L两大系列新型激光直写设备，实现了激光直写设备的更新换代。该新型激光直写采用全新的技术路径提高加工分辨率，一举突破突衍射极限的限制，成功实现纳米尺度加工；突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状，可以广泛应用于各种受体材料，极大地扩展了激光直写设备的应用范围。
详细信息
HWN-P纳米激光直写系统是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统，根据压电平台的移动范围，分为P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型号，具有结构紧凑、操作方便、维护简单、加工分辨率高、支持多种受体材料等特征，能广泛适用于各种微纳结构及器件制造、材料工艺探素和小规模生产。该系列产品还可根据用户特殊需求，提供定制设计和制造。
新概念技术：华维纳LDW-P系列通过激光与材料的非线性相互作用，成功突破了光学衍射极限的限制，实现了纳米尺度的加工分辨力，最小的孔洞直径可达50nm。
多受体材料：华维纳LDW-P系列通过高精度的功率调制（＜1‰），可兼容包括金属薄膜、无机相变材料、光刻胶等多种受体材料。
可靠易用性：华维纳HWN-P纳米激光直写系统拥有强大的软件功能，支持标量刻写、矢量刻写等多种刻写模式，供用户根据不同的刻写场景而选择。另外，LDW-P系列还支持样品刻写后的在线分析，使用户一站式完成设计、刻写、分析等步骤， 大大提高了工作效率。
