$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>无掩模光刻机/直写光刻机

UTA DLP投影技术的无掩膜光刻机

型号
UTA
上海旭量光学技术有限公司

免费会员 

生产厂家

该企业相似产品

Sparkle,DOI,TDF,RDF测量

在线询价

晶圆缺陷检测仪

在线询价

普林斯顿光谱仪

在线询价
飞秒激光加工系统

上海旭量光学技术有限公司专研于光电产品系统集成。。坚持在光电领域前沿的不断探索,公司不仅为用户引进原厂生产的各类标准产品,而且致力于根据用户的新需求,探索提供完整的系统解决方案,包括研发设计、生产、集成和二次开发等,努力为客户提供专业、优质的服务。

我们坚持致力于高质量科研产品的推广工作,在飞秒激光器及飞秒微纳加工,超快时间分辨光谱及成像等超快领域拥有专业、全套的解决设备及方案。现设有北京,杭州、深圳三个分公司和售后服务中心。 主要科研产品:微纳飞秒激光加工系统、激光加工过程监测系统;一体化飞秒激光器及纳秒激光器、皮秒激光器、超连续白光光源;科研级深度制冷CCD、sCMOS、ICCD、EMCCD、


详细信息

UTA产品简介

显微镜LED曝光单元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的图案投影曝光装置。

使用金相显微镜和LED光源DLP投影仪,将具有机微米分辨率的任意图案投影到涂有抗蚀剂的基板上进行曝光。

图案可以在PC上自由创建。

因为可以在普通的室内环境中在各种大小盒形状的单晶薄片上形成电极,所以它比电子束光刻便宜且简单,不需要制造昂贵的电极图案掩膜板。


技术参数

  •    由于显微镜和DLP的结合,可以用很低的成本来构建系统;
       易于使用的软件可以轻松的创建曝光图案;
       通过物镜放大倍率图案,可以进行大范围的批量曝光;
       可以连接到您自己的显微镜上(选项);
       分辨率在微米级,最小刻度1um。
       曝光范围:可达2.5mm×1.5mm    最小100um×60um


应用案例

薄膜FET和霍尔效应测量样品的电极形成。

从石墨烯/钼原石中剥离电极形成并评估其特性。

研发应用的图案形成。

微信图片_20230302143043.jpg

光刻前的模拟(红光)

微信图片_20230216114649.jpg

白光刻蚀(可设置时间)


相关论文:

Damage-free LED lithography for atomically thin 2D material devices」


41915CF2C837456D96AAE02185D9C59B.png

bfbf40c3e42bc99dd13c439923c1d43.png


相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :