光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印刷电路板。

按照曝光波长分类，光刻胶可分为紫外光刻胶（300~450nm）、深紫外光刻胶（160~280nm）、极紫外光刻胶（EUV，13.5nm）、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X射线光刻胶等。不同曝光波长的光刻胶，其适用的光刻极限分辨率不同。通常来说，在使用工艺方法一致的情况下，波长越短，加工分辨率越佳。

可测量不同波长下的折射率与阿贝数值，数字显示，准确清晰，活动光源，可定做滤光片，对薄膜的XYZ轴有特殊方法检测！

ATAGO爱拓半导体光刻胶折射率阿贝折光仪 DR-M2/M4（最大1,100nm），可在波长450至1,100nm范围内，使用不同的波长测量折射率（nD）和阿贝数值。测量结果通过调整分界线至十字交叉点确定，测量结果在LCD显示屏以数字形式显示，与传统型阿贝折射仪相比，读数更快速更清晰。尤其适合高精度测量眼镜片等聚酯材质的折射率。

ATAGO爱拓半导体光刻胶折射率阿贝折光仪，广泛用于测量：浓缩果汁、香精香料、工业溶液、化工材料、光学玻璃、塑料薄膜、各种新型材料及某些固体物质的折射率（nD）及Brix值。