ZSX Primus400波长色散荧光仪-顺序波长色散XRF光谱仪

用于大样品固体、液体、粉末、合金和薄膜的元素分析

Rigaku独T的ZSX Primus 400顺序波长色散x射线荧光(WDXRF)光谱仪专门设计用于处理非常大和/或重的样品。该系统可接受直径达400毫米，厚50毫米，质量30公斤的样品，是分析溅射目标，磁盘或多层膜计量或大样品元素分析的理想选择。XRF与定制样品适配器系统具有多功能性，以适应您的特定样品类型和分析需求，这款WDXRF光谱仪适用于各种样品尺寸和形状，使用可选的(定制)适配器插入。具有可变测量点(直径30毫米至0.5毫米，5步自动选择)和多点测量的测绘能力，以检查样品均匀性，这种独T灵活的仪器可以大大简化您的质量控制过程。

XRF与可用的相机和特殊照明可选的实时摄像机允许在软件中查看分析区域。操作者完Q确定正在测量的是什么。传统的WDXRF分析能力传统仪器的所有分析能力都保留在这种“大样本”变体中。通过铀(U)分析铍(Be)，使用高分辨率，高精度WDXRF光谱，从固体到液体，从粉末到薄膜。分析较宽的成分范围(ppm到10%)和厚度(Ã到mm)。可选的是衍射峰干扰抑制，单晶衬底的最佳结果。Rigaku ZSX Primus 400波长色散x射线荧光(WD-XRF)光谱仪符合行业标准SEMI和CE。

ZSX Primus 400 应用程序溅射靶成分隔离膜:SiO2、BPSG、PSG、AsSG、Si3N4、SiOF、SiON等。高气和亚铁电影:PZT, BST, SBT, Ta2Os, HfSiOx金属薄膜：铜硅铝、钨、钛、钴、钛、钽、铱、钯、钌、钌、镍等。电极膜:掺杂多晶硅(掺杂剂:B、N、O、P、As)、非晶硅、WSix、Pt等。其他掺杂薄膜(As, P)，捕获惰性气体(Ne, Ar, Kr等)，C (DLC)铁电薄膜，FRAM, MRAM, GMR, TMR;PCM, GST, GeTe焊料凹凸成分:SnAg, SnAgCuNiMEMS: ZnO, AIN, PZT的厚度和组成SAW器件工艺:AIN、ZnO、ZnS、SiO2(压电薄膜)的厚度及组成;艾尔,铝铜、铝镓、AITi（薄膜电极）

ZSX Primus 400 配件带有特殊照明的样品相机可以在屏幕上查看分析点衍射干扰抑制为单晶衬底提供了准确的结果基本参数软件薄膜分析

ZSX Primus400波长色散荧光仪特性

大样本分析不超过400毫米(直径)最大50mm(厚度)高达30公斤(质量)样本适配器系统适应各种样品尺寸测量的位置直径30毫米至0.5毫米五步自动选择映射能力允许多点测量示例视图相机(可选)通用分析Be - U元素范围:ppm到%厚度范围:亚A至毫米衍射干扰抑制(可选)单晶衬底的精确结果遵从行业标准SEMI、CE标志占用空间小占用前代型号的50%