多技术电子束光刻系统
灵活性、多功能性和 SEM 成像
这种多功能的多技术纳米光刻系统将 EBL 系统与用于定制实验和工艺的开放平台相结合。eLINE Plus 具有一系列不同的选项，是通用的纳米工程 EBL 系统。
EBL-SEM 混合系统将先进的纳米光刻和分析 SEM 成像结合在一个工具中。PIONEER Two 定义了一种新型的经济型专业电子束光刻系统，适用于纳米加工和基于 SEM 的分析。
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专用电子束光刻系统
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半导体材料分析,材料刻蚀
北京瑞科中仪科技有限公司专注半导体材料研究分析设备的研发和应用。专业的团队，专精的服务，提供理想的解决方案。
我们长期专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理，为高校、企业科研工作者提供专业的分析解决方案。以专业技能为导向，用科技来解决用户在科研中遇到的难题。专业的技术工程师和科研工作者进行现场演示和技术交流，打消顾虑，彼此协作，为我国的科研领域谱写新篇章。
北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备，其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器。
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专用电子束光刻系统
自动化、稳定性和吞吐量
EBPG Plus 高性能纳米光刻系统可在 100 kV 电压下提供高达 8 英寸的能力。其全自动化、高速和高分辨率可以为中心的操作以及半导体制造产生的光刻技术。
凭借其创新的架构和具有吸引力的拥有成本，VOYAGER 纳米光刻系统降低了高速电子束光刻的准入门槛。
RAITH150 两个直写工具提供超高分辨率 EBL 和出色的成像能力。亚 8 纳米结构可以在从几毫米到 8 英寸晶圆的样品尺寸上实现，而热稳定性即使在具有挑战性的环境中也能支持最高性能。
