起订量:
SPB5/plus RIE反应离子刻蚀机
高级会员第10年
生产厂家企业历程 :
◆ 2006 年,在美国加州洛杉矶注册成立赛福国际集团有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大学科研院所销售仪器设备的供应商。
◆ 2008 年, 自主研发生产石墨电热板以来, 先后研发生产酸蒸逆流清洗器、酸纯化器、智能消解仪等理化实验仪器设备, 从此走上研发生产专业化道路。
◆ 2010 年,掌握了等离子核心技术,自主研发生产科研型等离子清洗机系列产品。
◆ 2014 年, 在中国注册成立华仪行(北京) 科技有限公司, 正式进入中国市场, 部分仪器设备研发、制造业务移至中国。
◆ 2015 年,自主研发生产专为处理粉体样品而设计转瓶等离子清洗机。
◆ 2017 年,自主研发生产紫外臭氧清洗机系列产品。
◆ 2018 年,在中国成注册立赛福仪器承德有限公司,将研发制造业务全部移至中国。
◆ 2019 年,电镜专用远程等离子清洗机研发成功。
◆ 2021 年,自主研发生产中试、生产型等离子清洗系列产品,完善了等离子产品线。
◆ 2023 年,科研型等离子去胶机、RIE 蚀刻机研发成功。
公司专注材料表面处理技术:
◆ 改性(等离子清洗机、紫外臭氧清洗机) ◆ 去胶(等离子去胶机)
◆ 蚀刻(等离子刻蚀机) ◆ 涂层(等离子溅射镀膜机、匀胶机、烤胶机)
企业愿景:
致力于为全球用户提供专业的表面处理整体解决方案。
企业使命:
CIF与我们的员工、客户乃至商业伙伴在内的所有人,同呼吸,共命运,共同成长,共同发展,共同成就梦想!
RIE反应离子刻蚀机主要用于微电子芯片、太阳能电池、生物芯片、显示器、光学、通讯等领域的器件研发和制造。
产品特点
◆ 7 寸彩色触摸屏中英文互动操作界面,自动控制监测工艺参数状态,20 个配方程序,工艺数据可存储追溯。
◆ PLC 工控机控制整个清洗过程,手动、自动两种工作模式。
◆ 真空舱体、全真空管路系统采用 316 不锈钢材质,耐腐蚀无污染。
◆ 采用防腐数字流量计, 实现对气体输入精准控制。标配双路气体输送系统, 可选多气路气体输送系统, 可输入氧气、氩气、 氮气、四氟化碳、氢气或混合气等气体。
◆ 采用花洒式多孔进气方式,改变单孔进气不均匀问题。
◆ HEPA 高效过滤,气体返填吹扫,防止二次污染。
◆ 符合人体功能学的 60 度倾角操作界面设计,操作方便,界面友好。
◆ 采用顶置真空舱,上开盖设计,下压式铰链开关方式。
◆ 上置式 360 度水平取放样品设计,符合人体功能学,操作更方便。
◆ 有效处理面积大,可处理最大直径 154mm 晶元硅片。
◆ 安全保护,舱门打开,自动关闭电源,机器运行、停止提示。
技术参数
型号 | RIE200 | RIE200plus |
舱体内尺寸 | H38xΦ260mm | H38xΦ260mm |
舱体容积 | 2L | 2L |
射频电源 | 40KHz | 13.56MHz |
电极 | 不锈钢气浴 RIE 电极, Φ200mm | 不锈钢气浴 RIE 电极, Φ200mm |
匹配器 | 自动匹配 | 自动匹配 |
刻蚀方式 | RIE | RIE |
射频功率 | 0-600W 可调(可选 0-1000W) | 0-300W 可调(可选 0-600W) |
气体控制 | 质量流量计(MFC)(标配双路,可选多路)流量范围 0-500SCCM(可调) | |
工艺气体 | Ar、N ₂、O ₂、H ₂、CF4、CF4+ H2、CHF3 或其他混合气体等(可选) | |
最大处理尺寸 | Φ154mm | |
产品尺寸 | L520xW600xH420mm | |
包装尺寸 | L700xW580xH490mm | |
时间设定 | 9999 秒 | |
真空泵 | 抽速约 8m³/h | |
气体稳定时间 | 1 分钟 | |
极限真空 | ≤1Pa | |
电源 | AC220V 50-60Hz,802(1202)502(802)W 所有配线符合《低压配电设计规范 GB50054-95》、《低压配电装置及线路设计规范》等国标标准相关规定。 | |
整机重量 | 38kg |
备注: 可选:1、冷却循环水器:温度控制范围 -20-100℃;
2、分子泵:分子泵抽速 85L/s(N2)极限真空:LF<8*10-6Pa,CF<8*10-7Pa。