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LTS-202 半导体循环冷水机Chiller 分析装置制冷机

型号
LTS-202
参数
产地类别:国产 价格区间:10万-50万 冷却方式:水冷式 仪器种类:一体式 应用领域:化工,生物产业,电子,制药,汽车
无锡冠亚恒温制冷技术有限公司

中级会员20年 

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制冷加热循环器、加热制冷控温系统、反应釜温控系统、加热循环器、低温冷冻机、低温制冷循环器、冷却水循环器、工业冷处理低温箱、低温冷冻机、加热制冷恒温槽等设备

无锡冠亚恒温制冷技术有限公司致力于制冷设备、超低温冷冻机、制冷加热控温系统、加热循环系统、防爆电气设备、自动化集成分散控制系统、实验仪器装置、工业冷冻室的开发、生产和贸易的科技实体。拥有数位在超低温、高低温开发方面具有丰富经验的高素质专业设计人员的研发队伍。


我们的使命:

聚焦解决客户宽温制冷、加热控温难题和降低制冷、加热系统能耗;

提供有竞争力的系统解决方案和服务,持续为客户创造较大化价值;




详细信息



无锡冠亚恒温制冷技术有限公司的半导体控温解决方案

主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,

⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。




【 冠亚制冷 】半导体行业主营控温产品:

半导体专温控设备

射流式⾼低温冲击测试机

半导体专用温控设备chiller

Chiller气体降温控温系统

Chiller直冷型

循环风控温装置

半导体⾼低温测试设备

电⼦设备⾼温低温恒温测试冷热源

射流式高低温冲击测试机

快速温变控温卡盘

数据中心液冷解决方案


型号FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
温度范围5℃~40℃
控温精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
内循环液容积4L5L6L8L10L12L20L
膨胀罐容积10L10L15L15L20L25L35L
制冷剂R410A
载冷剂硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI温度需要控制10℃以上)
进出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷却水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷却水流量at20℃1.5m³/h2m³/h2.5m³/h4m³/h4.5m³/h5.6m³/h9m³/h
电源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
温度扩展通过增加电加热器,扩展-25℃~80℃





半导体循环冷水机Chiller 分析装置制冷机

半导体循环冷水机Chiller 分析装置制冷机


  随着半导体行业技术的发展,半导体行业对设备的要求也越来越高。其中,多晶硅刻蚀双通道chiller冷却设备是半导体制造过程中的一种设备,在半导体制造过程中,需要将芯片冷却到低的温度,以确保其性能和稳定性。

  其中,多晶硅刻蚀双通道chiller是一种常见的半导体冷却设备。它通过将冷却剂循环使用,将芯片冷却到所需的温度范围。多晶硅刻蚀双通道chiller的主要功能是提供稳定的温度控制,以确保芯片在制造过程中的稳定性和可靠性。

  在半导体行业中,多晶硅刻蚀双通道chiller的应用非常广泛。它不仅用于制造芯片,还用于制造集成电路、光电子器件和其他半导体器件。此外,多晶硅刻蚀双通道chiller还可以用于其他领域,如新能源电池电机中进行高低温测试用等。

  在半导体制造过程中,多晶硅刻蚀双通道chiller不仅可以提供稳定的温度控制,还可以减少热噪声和热膨胀等效应,从而提高芯片的性能和稳定性。此外,多晶硅刻蚀双通道chiller还可以提高生产效率,减少生产成本。

  在选择半导体行业用多晶硅刻蚀双通道chiller时,需要考虑多个因素。需要确定所需的冷却功率和温度范围。其次,需要考虑设备的可靠性、稳定性和易用性。另外,需要考虑设备的成本和维护成本。

  总之,半导体行业用多晶硅刻蚀双通道chiller是半导体制造过程中的一部分。它可以提供稳定的温度控制,还可以提高生产效率,减少生产成本。因此,选择合适的半导体行业用多晶硅刻蚀双通道chiller对于半导体制造企业来说有一定影响。



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产品参数

产地类别 国产
价格区间 10万-50万
冷却方式 水冷式
仪器种类 一体式
应用领域 化工,生物产业,电子,制药,汽车
企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
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