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IB-19530CP截面样品制备装置

型号
参数
供货周期:两周 应用领域:化工,电子,综合
赛非特科学仪器(苏州)有限公司

高级会员2年 

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详细信息

IB-19530CP截面样品制备装置为了满足市场多样化的需求,IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台,通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。

IB-19530CP截面样品制备装置根据需要可以选择不同的功能性样品座,不仅能截面刻蚀,还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。


 高通量

   通过配备高速离子源和利用自动开始加工功能,不需花费时间等待加工开始,短时间内就能刻蚀。

 自动加工程序

   快速加工和精抛加工可以程序化,短时间内就能制备出高质量的截面。此外,利用间歇加工模式,还能抑制加工温度。

 设置简单

   功能性样品座采用模块化设计,在光学显微镜(另售)下也能调整加工位置。

 多用途样品台

   通过选择各种功能性样品座,不仅能截面刻蚀,还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。

 高耐久性遮光板

   遮光板的耐久性是旧机型的3倍左右,能支持高速率加工和长时间刻蚀。




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产品参数

供货周期 两周
应用领域 化工,电子,综合
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