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4200cl1200na 陶氏罗门哈斯阴树脂离子交换阳树脂去离子剂
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陶氏阴树脂4000CL离子交换阳树脂1000NA去离子剂均粒树脂 ,是专门为半导体、高性能显示器和微电子行业对超纯水的严格要求而设计生产的,AmberjetDOW陶氏树脂MR-3UPW有货超纯水专用抛光树脂MR-3UPW是由再生好的阴阳树脂组成,应用于超纯水系统中反渗透装置后的混床中。这种混床树脂产品一般应用于特殊电子行业的超纯水精制中,如生产磁盘驱动器、显示设备、CD-ROM、独立的半导体设备、低密集成电路,或者用于后级集成电路的分块和配件操作中。这些应用即需要有高纯度的水质,又需要具有经济性。只要超纯水系统的设计合理,因为Amberjet UP6150在精制混床中高次营运出水就能达到18M.c,且TOC含量水于5ppb。因为陶氏树脂离子交换阴树脂AMBERLITE4000CL离子交换阳树脂1000NA去离子剂高水平的再生特性,它同样适合于应用于其它一些普遍的超纯水制造行业中。
型号 | 物理形态 | 树脂结构体 | 离子型态 | 含水量 | 操作温度 |
陶氏阴树脂4000CL离子交换阳树脂1000NA去离子剂 | 琥珀色颗粒 | 苯乙烯/二乙烯苯交联共聚物 | H+型 | 45-51% | 低于60℃ |
OH-型 | 54-60% | ||||
DOW陶氏树脂MR-3UPW有货超纯水专用抛光树脂MR-3UPW | 棕褐色球状颗粒 | 苯乙烯/二乙烯苯交联共聚物 | H+型 | 44-54% | 低于60℃ |
杜邦陶氏罗门哈斯阴树脂离子交换阳树脂去离子剂陶氏阴树脂4000CL离子交换阳树脂1000NA去离子剂。AMBERJET DOW陶氏树脂MR-3UPW有货超纯水专用抛光树脂MR-3UPW应用于18MΩ超纯水系统中反渗透装置后的混床中。这种混床树脂产品一般应用于特殊电子行业的超纯水精制中,如生产磁盘驱动器、显示设备、CD-ROM、独立的半导体设备、低密集成电路,或者用于后级集成电路的分块和配件操作中。这些应用即需要有高纯度的水质,又需要具有经济性。
只要超纯水系统的设计合理,因为DOW陶氏树脂MR-450UPW有货超纯水抛光混床树脂MR-450UPW在精制混床中营运出水达到18MΩ.C,且TOC含量水于5PPB。罗门哈斯抛光树脂UP6150高水平的特性,它同样适合于应用于其它一些普遍的超纯水制造行业中。
杜邦离子交换阴树脂AMBERLITE4000CL离子交换阳树脂1000NA去离子剂 陶氏树脂MarathonA离子交换阴树脂MarathonA300AOH-型和组成它的树脂是经过后处理以保证离子的低平衡泄漏。在进水得到充分的处理及合理的混床设计情况下DOW陶氏树脂MR-3UPW有货超纯水专用抛光树脂MR-3UPW的出水电阻率能达到18MΩ.C,其二氧化硅系统中单靠一个单元不可能全然保证水质的纯度。事实已经证明罗门哈斯UP6150在超纯水系统中有能力生产出高纯度的水。
二、杜邦离子交换阴树脂AMBERLITE4000CL离子交换阳树脂1000NA去离子剂特性:
外觀 | 琥珀色顆粒 |
樹脂結構體 | 苯乙烯/二乙烯苯共聚合體 |
包裝密度 | 約665~740克/公升 |
總交換容量 | 陽樹脂≧2.0eq/L 陰樹脂≧1.3eq/L |
出貨時之離子型態 | H型/OH型 |
陽樹脂組合比率 | 38~44% |
陰樹脂組合比率 | 56~62% |
操作條件 | |
操作度 | 不得超過60oC |
小床深 | 700mm |
採水流速(BV/Hr) | 20-40BV/Hr |
陽樹脂再生藥劑 | HCL 或 H2SO4 |
陰樹脂再生藥劑 | NaOH |
三、杜邦离子交换阴树脂AMBERLITE4000CL离子交换阳树脂1000NA去离子剂性 能:
的再生转型率;
· 超纯水出水*低的离子和金属残留特性;
· *低的 TOC 溶出物;
· 超纯水混床树脂仅需 4 倍床层体积的冲洗便能使出水达到 18.3Mcm ;
· 树脂颗粒无裂纹率 >95% ;
· 高度耐磨性,防止使用过程中出现破碎;
· 的机械完整性。
这类树脂适用于超纯水或其它相当要求应用领域中的初级除盐和精制抛光除盐,适用于复床和混床。陶氏化学的这种高性能超纯水级树脂在超纯水系统中的使用量比其它所有品牌的总和还要多,几十年来,在国内外众多的微电子公司和晶元制造商一直成功地使用着陶氏的这类高性能超纯水级树脂,其出水水质更高更稳定,冲洗更快,压降更低,使用寿命特别长,补充量特别少,运行成本低。