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RX-610-R 凯尔克kelk化学溶液恒温循环器控制器半导体
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凯尔克kelk化学溶液恒温循环器控制器半导体 RX-610-R 特点介绍
湿法工艺的直接循环化学恒温装置,具有在线冷却和加热装置,不会造成金属离子洗脱和污染。
KELK的化学循环器能够高精度地控制RCA清洗和湿法蚀刻中使用的药液温度,作为半导体制造湿法工艺中的设备,得到了广泛的喜爱。
为了响应近年来使用药液的多样化、高兆位化带来的清洁度提高的要求,进一步进行了更新。(注)作为高温药液用,建议使用CS加热器。
冷却加热部的传热接液部件使用高纯度的玻璃状碳,无需担心溶出金属离子造成的污染,也不需要表面保护膜,也不会因剥离而降低能力。
由于橡胶O型圈不直接接触液体的密封结构,因此无需选择酸性液体、碱性液体等每种药液的密封材质。
由于采用电子冷热方式,因此适用于室温附近的温度控制且精度高。
本装置符合国际保护标准IP31.
装置内置检测药液和冷却水泄漏的漏液传感器、检测异常温度的温度开关,因此您可以放心使用。
凯尔克kelk化学溶液恒温循环器控制器半导体 RX-610-R 特点介绍
半导体制造湿法工艺中使用的药液的温度管理
●RCA清洗液
●蚀刻液
●光刻工序显影液
其他领域中的各种药液的温度管理
●不能使用电镀液、各种表面处理液、其他(注)含有臭氧的药液。