New ClippIR+ AnalyzeIT湿法过程分析仪
ABB用于半导体工业中湿法过程在线、实时监测和控制的解决方案
在半导体制造业中，对湿法化学过程进行连续监测可以提高产量，降低故障率，使生产利润

在半导体制造业中，为了提高企业的生产能力和产品质量，降低生产成本，需要对相关的湿法过程进行精确的控制。ABB公司的湿法过程分析仪（WPA）可以对各种刻蚀液、清洗液和去光胶液的化学浓度进行连续的在线监测，并为实时过程控制提供了必要的信息。
采用实时过程监测，企业能从化学制品有效期的延长、消耗与浪费的减少以及实验室测量工作的减轻等方面提高成本效益。实践表明，将SC1、SC2等清洗液的使用寿命延长25%到30%，WPA的投资成本一般可以在一年内收回。对于一些通用的有机化学试剂，它的成本回收期大约只有6个月左右。
WPA具有许多的技术优势，它能够对湿法过程中使用的30多种不同的溶液（见下页的列表）进行监测。另外，ABB公司还可以根据客户的具体要求定制专门的标准曲线。
WPA系统中包含的FTSW100过程控制软件，可以实现分析仪与湿法过程的集成。除了能够显示在过程流中监测到的各种化学成分的浓度值及其变化趋势外，该软件还有自动数据存储功能，当某些数值超出了许可范围时，该软件还会发出警告或报警。当清洗液成分不符合要求时，软件会报警通知操作人员，同时使设备自动阻挡清洗液的流入。

非接触式红外检测
WPA主机为傅立叶变换近红外光谱仪（FT-NIR），这种光谱仪通过光纤连接到名为ClippIR+的Teflon检测池。一次最多可以使用8个ClippIR+来同时监测各种化学溶液。ClippIR+的创新设计可以使其能够很容易地固定在现有管道的外表面上。穿过ClippIR+的红外光使系统可以直接监测管道内的化学物浓度，而不会造成任何污染。
ClippIR+专为半导体应用而设计，能够安装在任何尺寸的Teflon管上。由于它体积小，因此可以安装在很小的化学箱体之上，或者安装在湿法设备的其它任何部件之内。另外，它还具有抵抗化学腐蚀的能力，可以在强腐蚀性环境中使用。
FTPA-2000系列光谱仪可以在恶劣的工业条件下使用，它具有很小的外形尺寸（43×41×18厘米），可以安装在离ClippIR+远达100米处。它既可以在洁净室外作为一个独立的装置单独使用，也可以集成在整个过程分析仪系统中使用。


FTSW100过程控制软件中的测量屏幕将显示各种成份的浓度值与变化趋势：

Teflon检测池   新型产品ClippIR+具有抗污染和抗化学腐蚀性能，并且不需要中断生产就可以在生产流路中快速安装。

多路分析  1台WPA能够监测多达8种不同的过程流，对每个流路可以分析其4种配方（最多可达32个参数）。

红外（IR）分析   半导体红外分析避免了在过程流中循环的溶解金属或其它颗粒物所造成的干扰。

插入式测量  不需要引出过程支流，可通过光纤传输的红外线对管道中的过程流直接进行测量。

远程监测   WPA可以设置在离测量点（ClippIR+）远达100米处，如果必要，还可以将其放在室外。



特点
可对湿法化学过程进行精确的、实时的在线监测；
非接触式测量；
快速测量 （＜1分钟，多种通讯协议）；
多过程流分析（最多可达8个流路）；
多组分分析（每个流路最多可达4种配方）；
通过光缆实现远程监测，外形尺寸小；
的稳定性与可靠性；
不需要使用试剂；
化的售后服务与技术支持。

优势
由于延长了清洗液使用寿命，减少了化学品消耗量，并且无离线实验室分析所需要的停工期，因此节约了生产费用；
无化学品损耗，无污染，安装时无需停工；
能够实现实时过程控制；
每条过程流分析成本低；
增强了在技术要求很严格的场合的过程分析性能，减少了晶片清洗的次数；
灵活的安装选择；
无漂移，仅需少量维护；
交钥匙系统；
迅速的服务响应。

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