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MSK-PSS-MC1010磁控溅射仪
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生产厂家 深圳市科晶智达科技有限公司2001年成立于深圳,是一家聚焦服务于高校、研究院所、企业研发部门的国家技术企业,长期致力于打造安全、高效、智能的实验研发一站式服务平台,为科学研究与产业孵化赋能。
深圳科晶与美国MTI、合肥科晶、沈阳科晶同属MTI-科晶联盟,目前已经搭建辐射的服务网络,精心为科学家们的实验室提供交钥匙工程解决方案。
深圳科晶创立初期主要为半导体、精密光学器件提供洁净存储和安全转移所使用的包装制品,产品包括各种塑料胶盒、膜盒、晶圆盒、海绵盒、花篮等。
公司2008年开始进行材料相关研发设备和锂电池实验设备的开发,经过十多年的积累深圳科晶现已成为新能源和新材料基础研究、小试与中试、测试与评估的整体解决方案规划者和提供者,产品应用涵盖了石墨烯材料、*陶瓷、*纳米材料、锂离子电池、超级电容器、燃料电池、固态电池、钙钛矿太阳能电池、功能薄膜等方向。
主要产品系列:按应用与工艺更新产品系列
• 材料基础研究实验装备(包括混料、涂覆、镀膜、压制、烧结、切割、研磨、抛光、粉碎、制粉、造粒、熔炼等);
• 电池研发实验制备装备(包括锂离子电池、固态电池、超级电容器、金属空气电池、钠离子电池、液流电池、太阳能电池等制备方案);
• 电池安全测试装备(符合GB31241 、GB31485、IEC62133、UN38.3等国内标准等);
• 锂离子电池中、小试生产制备全流程系统装备方案,交钥匙工程(包括扣式、柱状、软包、方形铝壳等各种全电池制备方案);
• 燃料电池研发实验制备装备(包括固体氧化物、质子交换膜燃料电池等制备方案);
• 钙钛矿太阳能电池研发实验制备;
• 功能薄膜研发实验设备(包括混料、涂布、辊压/复合、分切、复卷等);
• 高通量材料基因组实验设备(包括配液、配粉、混合分散、压片、烧结、测试表征等);
公司设立了开放的研发实验室和设备体验中心。对于锂电池行业,可实现公斤级别材料制备及电池研发,能接受上门小批量材料验证、定向工艺研究及小量成品电池制备等研发工作。
深圳科晶强大的研发团队支撑了丰富的产品链,针对现有产品具有*知识产权的发明和实用新型共40多项(包含PCT和国内发明),并参与行业多项标准制定且获得多个行业协会认可。
本着“精诚合作、创新共赢”的宗旨,深圳科晶先后与清华大学、南开大学、上海交通大学、深圳大学、中航发航材院、溧阳天目湖研究院等十多个高校机构和企业签署产学研合作。与此同时,深圳科晶设立了对外服务的公共试验平台,承接科研人员参观交流与现场测试体验,配备行业资深的售前技术人员协助研究者充分了解相关工艺和设备,缩短调研考察与决策时间。该实验室平台也可以承接相关工艺试验服务和培训咨询服务,协助细分领域的科研工作者快速掌握产业工艺,从而专注前沿研发。
材料科学是基础科学。纵观人类科技的发展历史,新型材料的发现和应用将带来巨大的产业机遇,而*实验装备和仪器是为科研和应用保驾护航的重要保障。科晶团队将一如既往秉承“客户为本,技术为导,诚信为基,积极创新”的运营理念 ,竭力为科学研究和科技发展做出贡献。
MSK-PSS-MC1010磁控溅射仪
MSK-PSS-MC1010磁控溅射仪可在衬底基片上溅射一层薄膜,原理是由惰性工艺气体产生辉光放电现象生成带电离子,带电离子经过电场加速后轰击固体靶材表面,使靶材表面原子和分子被轰击飞溅出来,同时产生二次电子,再次撞击气体原子而形成更多的带电离子,从靶材溅射出来的粒子在低压气氛中向硅片作渡越运动,碰撞到衬底基片上并被基片吸附,最终凝聚在衬底形成需要的薄膜。
功能特点 |
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设备设计紧凑,可与手套箱对接;
极限真空度优于5E-5Pa(干燥环境),溅射尺寸兼容多种规格,最大为100*100mm,并支持基片旋转速度0~30rpm连续可调;
采用不锈钢真空室,内部电抛光处理,配备观察窗、靶枪及挡板转轴等;
真空系统采用“分子泵+机械泵”组合,具有高效的抽速和完善的真空测量系统;
气体控制方面,具备3路进气并可通过流量计精确控制;
配有3个共焦向上溅射的圆形靶枪, 可以支持低气压溅射以减小二次电子损伤;
设备提供旋转加热工件台,可调节转速、加热温度以及与靶之间的距离
技术参数 | ||
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电源 | 三相五线制AC380V±10%,频率:50Hz,总功率约6KW | |
气源 | 压缩空气:干燥、干净、无水、无油的压缩空气,8mm塑料气管,压力5.5~6公斤(0.55-0.6Mpa) 普通氮气:干燥氮气,用于设备腔室破真空,8mm塑料气管,压力1-2公斤(0.1-0.2Mpa) 工艺气体:高纯,99.999%,共两路工艺气体,6mm不锈钢管,其中一路为高纯氩气,压力1~2公斤(0.1-0.2Mpa),另外两路工艺气体按工艺需求准备 | |
水源 | 流量15-20升/分钟水温15~25℃, 进水和出水压差1~2公斤,进水压力2~3公斤, 设备的进水和出水口外径12mm (建议在设备的进水口前安装一个球阀,方便调节水压和水流量) | |
真空室 | 304不锈钢真空室,内部电抛光 前后开门,门上有1个80mm观察窗,带挡板,防辐射 底部安装3个靶枪及挡板转轴 侧壁及底部有备用法兰接口以备将来使用 可拆卸不锈钢内衬,手拧拆卸方便清理 | |
真空系统 | 组成 | 分子泵+机械泵组合式真空系统,气动阀门 分子泵:中科科仪分子泵FF200/1300,抽速:1300L/s 机械泵:鲍斯BSV-30机械泵,抽速:9L/s 真空阀门:型号:DN40mm 挡板阀2套;主阀DN200 1套,可调限流阀1套,进口薄膜真空计1套,量程0.0001torr-0.1torr,自动调压 真空密封:可拆静密封采用氟橡胶圈密封,不常拆静密封采用无氧铜密封 |
真空极限 | 真空极限优于5×10-5Pa(干燥环境) | |
抽速 | 抽气时间:大气压~工作真空(5*10-4Pa),约20min(对接手套箱氮气环境) | |
真空计 | 1个两低一高2个真空计,测量范围:大气到1E-5Pa | |
气体控制 | 3路进气,采用Horiba Metron(中日合资)流量计控制进气,流量计最大流量分别为200/100/50sccm,两路气体经过流量计后混合,混合后导入真空室靶面 | |
溅射靶枪 | 3个2英寸圆形靶枪,共焦向上溅射 靶枪和工件距离80-120mm,可调节 每个靶枪带一个独立的电控气动挡板 可实现低气压溅射,减小二次电子损伤样品基底 | |
溅射电源 | 1台G-POWER功率500W自动匹配射频电源: 最大输出功率500W,频率13.56MHz,输出采用功率控制模式,自动匹配,匹配时间短,反射功率小于3W; 1台北京持动力直流溅射电源: 最大输出功率500W,输出可切换采用功率控制模式,恒流模式,恒压模式,电源带完善的异常打火,短路等保护功能耐用易用 | |
旋转加热工件台 | 最大可放置衬底基片样品尺寸:100mm*100mm,兼容3英寸、2英寸、φ45mm、φ30mm,以及小尺寸方形片(对角线长度小于45mm) 基片转速0-30rpm连续可调,旋转轴水冷保护 转轴磁流体密封 样品台加热温度:最高温度500℃,控温误差±1℃ 样品台和靶之间距离采用焊接波纹管密封电动可调,带刻度显示 成膜质量:样品范围内均匀性优于±5% | |
控制系统 | 西门子PLC+西门子触摸屏手自动控制系统 控制内容:机械泵,分子泵,气动、电磁阀门、流量计等等;自动抽真空,自动排气等 完整的互锁保护(硬件、软件互锁) | |
真空室尺寸 | 约W400*D400*H450mm | |
外形尺寸 | 约W780*D930*H1820mm |