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DZ350 高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统
- 型号
- DZ350
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详细信息
1.产品概述：
该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；样品加热控温；电控系统；配气系统等部分组成。
2.产品应用：
在实际应用中，这种系统常用于半导体、光电子、有机电子等域，用于制备各种有机薄膜、金属薄膜或复合薄膜，以满足不同器件和材料的研究与开发需求。
3.真空室:
沈阳科学仪器的高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统 DZ350的详细介绍可能因具体型号和配置而有所不同
真空室结构:U形开门
真空室尺寸:φ350×400mm
限真空度:≤6.6E-5Pa
沉积源:2个钨舟、2个有机源
样品尺寸，温度:50mmx50mm，1片，高300℃
占地面积（长x宽x高）:约2.5米×1.2米×1.8米
电控描述:采用先进的控制系统，方便用户设置和调整工艺参数，如蒸发温度、沉积时间等。
手动：样品台：拥有可旋转或可移动的样品台，以便均匀沉积薄膜。
工艺:不含工艺
