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CMS系列 电子束蒸发镀膜设备
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
极其强大的先进研究工具
设计用于适应特定的薄膜应用,如 GMR、CMS、半导体、纳米级器件、光子学和光伏
系统设计可以配置为真正的超高真空性能
经过现场测试和验证的设计
适应性强的腔室、底板和基板选项
18“ D x 15” H 不锈钢工艺室
旋转基板,适用于最大 150 毫米(6 英寸)基板
使用石英灯加热器将基板加热至800°C
单晶圆或多晶圆负载锁定,带手动或计算机控制的样品转移
高精度PID温度控制回路(配备基板加热时)
1500 l/s 低温泵
宽量程真空计,atm 至 1x10-10托
高精度闭环压力控制(溅射应用的上游和下游)
气动源和基板百叶窗
可配置六个或更多磁控沉积源
交叉污染屏蔽(如适用)
计算机控制,手动或全自动操作
提供 CE 标志、UL 列表、CSA、NRTL 和其他行业认可的测试认证
挤压铝框架,带外壳板
单业务分接配电模块
旋转基板,适用于最大 200 毫米(8 英寸)基板
用于样品清洁的基质偏置(通常是射频等离子体,用于去除天然氧化层)
沉积过程中的衬底偏置会影响薄膜微观结构的特征(如晶体取向),提高薄膜致密化,促进薄膜粘附力,并促进提高共溅射合金薄膜的薄膜均匀性
使用元件式加热器将基板加热至1100°C
基板冷却(液体和/或 LN2)
用于涂覆基材两侧的样品翻转夹具
薄膜成型工具(刀片安装在高精度计算机控制臂上)
基板上的可转位磁场
原位薄膜分析(光学过程监测仪、RHEED 或光谱椭偏仪)