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VCM-125 HMDS真空镀膜机
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生产厂家上海喆图科学仪器有限公司产品主要有台式真空干燥箱,实验室真空干燥箱,高精度真空干燥箱,数显真空干燥箱,数显电热鼓风干燥箱,智能电热鼓风干燥箱、生化培养箱、霉菌培养箱、恒温恒湿箱、光照气候箱、人工气候箱、二氧化碳培养箱、电热恒温培养箱、隔水式恒温培养箱、鼓风干燥箱、立式鼓风干燥箱、高温鼓风干燥箱、真空干燥箱、热空气消毒箱(干烤灭菌器)、干燥培养两用箱、恒温水槽、恒温水浴锅、低温恒温水槽、恒温加热板、一体马弗炉、摇床等科研仪器设备。公司座落在拥有深厚的近代城市文化底蕴和众多历史古迹的名城—上海,它是中国国家中心城市,中国的经济、金融中心。我公司致力于科研仪器行业的发展,专业从事实验仪器的研发设计、生产、为一体的高科技企业。公司秉着“创新、质量、服务”的企业理念,赢得了诸多用户的信任和业界相传的口碑。目前我们的产品已涵盖教育、科研、医疗、卫生、检疫、制药、食品、农业、化工、石油、环保等行业,并与众多企业和高等院校及科研事业单位精密合作。
公司依托上海得天独厚的资源优势,立足“高起点,高技术,高质量,高效率,高效益”的“五高”建设方针,发扬“艰苦奋斗、开拓务实”的企业精神和“我是喆图人”的团队精神,把质量至上战略、人才发展战略、感动客户战略作为喆图发展战略,坚持技术和管理创新,使喆图科仪朝着科技超常规跨越式的道路方向发展。
公司重视企业文化,企业文化是价值理念和实践行为的高度统一,是公司多年来长期生产经营过程中逐步形成的,喆图模式是公司企业文化建设的有效载体,“喆图科学、喆图仪器、喆图为您”品牌形象的塑造是喆图企业文化建设的具体体现。
作为中国科研仪器行业的生产研发型企业,喆图人自觉肩负“助力科学研究”的企业使命,以“员工幸福、客户满意、成人成己、益国利民”为企业宗旨,通过实施“仪器生产规模化、技术装备现代化、队伍专业化和管理手段信息化”四化工程,提升了“喆图”品牌价值,形成了“真诚、感恩、责任、坚持”的喆图核心价值观,为企业的发展提供了强大的精神动力。
我公司是一个有激情和梦想的团队,我们秉承“以人为本、尽责诚信、创新共赢、奉献社会”的企业理念,始终不渝的坚持主观与客观的结合,使团队和员工充满创造的激情。
公司立足于重实际、办实事、见实效,把文化理念融入到生产建设和质量管理的各个环节,致力于用文化提升领导力、执行力和凝聚力,以文化促进生产力,以软实力提升公司整体发展水平。如今的喆图企业文化已彰显出无穷魅力,正在推动喆图科仪 不断向前!
喆图品牌释义:
喆:【前汉·叙传】圣喆之治,意为明智,有智慧。图从字形上理解是一个非常吉利的字,左右结构两个“吉”组合而成,寓意大吉大利,我公司据此将“喆”引申表达为一个愿望、思想。
图:【尚书·太甲上】慎乃俭德,惟怀永图;视履考祥,其旋元吉。意为要重视节俭之德,怀有长远的谋划。天高地远,人生其中,艰难丛生,困苦迭出,无可回避。处此艰难旅途的君子,应该以内心的和悦柔顺,去应付外界的刚健强劲。刚柔相济,内外相应,天人和谐。如此,方能逢凶化吉,顺畅无忧。公司的“图”取自大展宏图,励精图治,有寄寓公司产品精益求精之意,表示一种抱负、前程。
“喆图”品牌可用“愿望、前程、奋斗”三个词语表达,喆图人愿充分利用聪明智慧,做事精益求精。以达成喆图愿景的美好愿望而谋划,创造更大的经济、社会、人文价值,为追求喆图宗旨来做为抱负而奋斗,使得员工幸福、客户满意、成人成己、利国利民。
用途概述
HMDS真空镀膜机化学名叫六甲基二硅胺烷(别名六甲基二硅氮烷),HMDS真空镀膜机又称HMDS基片预处理系统,指需在低真空度下进行的镀膜。对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制,可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量,所有工艺都在密闭的环境中进行,没有HMDS挥发,提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料,为基片在涂胶前改善表面活性,增加光刻胶与基底的粘附力的设备,也可用于晶片其它工艺的清洗,尤其在芯片研发和生产领域应用更加普及。
产品特点
采用PLC工控自动化系统,人机界面采用触摸屏,具有可靠性高,操作智能方便。
PLC微电脑PID控制系统具有自动控温、定时、超温报警等,彩色触摸屏显示,控温可靠;
智能化触摸屏控制系统,可根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间;
采用钢化玻璃观察窗,监测方便,一体成型的硅橡胶门封,确保箱内密封性好;
外壳和加热管均采用不锈钢材质,内胆不锈钢,无易燃易爆装置,无发尘材料;
以蒸汽的形式涂布到晶片表面,液态涂布均匀,可一次处理4盒以上的晶片,节省药液。
去水烘烤和增粘(疏水)处理一机完成无需转移,有效规避HMDS泄露的风险;
HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,使真空箱密封性好,确保HMDS气体不外漏;
多余的HMDS蒸汽(尾气)由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道,确保安全以及环保。
HMDS预处理系统的必要性
将HMDS涂到晶片表面后,经加温后可反应生成以硅氧烷为主体的化合物,
它可将硅片表面由亲水变为疏水,起着耦合作用,可更好与光刻胶结合,保证涂胶工艺不影
响光刻效果和显影。
HMDS本身是表面改性,不会涂在圆片表面,HMDS上面涂胶不影响HMDS的处理效果。
HMDS处理后需要冷却后涂胶,建议4小时内完成涂胶。
HMDS预处理程序
HMDS(六甲基二硅胺)是黄光区最毒的东西,预处理程序为:打开
真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一高真空度后,开始充入氮气,充到一定低真
空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保
持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入
通过氮气的HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,
使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,
完成整个作业过程。
技术参数:
型号 | VCM-90 | VCM-125 | VCM-210 |
电源电压 | AC 220V 50Hz | ||
控制系统 | PLC控制 | ||
仪表控制 | 彩色触摸屏 | ||
控温范围 | RT+10-250℃ | ||
温度分辨率 | 0.1℃ | ||
温度波动度 | ±0.5 | ||
真空度 | ≤133pa | ||
内胆尺寸 | 450*450*450 | 500*550*500 | 550*550*650 |
容积 | 90L | 125L | 210L |
真空泵 | 选配 | 选配 | 选配 |