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Wafer XRD
使用我们的技术可以测量颗粒粒度、形状和浓度、化学名称、Zeta 电位、蛋白质电荷、分子量、质量和构象、分子间相互作用和稳定性、元素浓度、晶体结构,元素及物相等参数。 这些信息对于预测产品在使用过程中的表现、优化其性能,从而实现高效制造至关重要。
作为思百吉集团成员,马尔文帕纳科(中国)共有8个办事处,总部位于上海,其他办事处包括北京、广州、武汉、沈阳、西安、深圳和成都。上海建有1600多平方米的粒度,形貌,X射线,GPC等设备的专业实验室,完善的实验室设备可以提供客户售前测样及其售后培训的配套服务与优良的技术支持。
Wafer XRD用于全自动晶圆拣选、生产和质量控制
特点
适用于3到8寸晶圆。也可根据要求提供其他尺寸
FOUP、载具或单个晶圆台
跨槽晶圆识别为可选功能
易于集成到任何工艺生产线中
测量速度:每个样品<10秒
典型标准偏差(倾斜度):例如Si 100<0.003°
MES和SECS/GEM接口
铜靶微焦点风冷X射线光管(**30W)或细焦点水冷X射线光管(**1.5kW)
符合CE标准的安全控制装置
通过3色灯塔指示状
材料
Si、SiC、GaAs、GaN、蓝宝石(Al₂O₃)、Ge、AIN、石英、InP和100s等。
可选插件
电阻率测量范围:0.01至0.020Ωcm
自动识别晶圆数据矩阵码、二维码、条形码或类似代码
未抛光晶圆和镜面的距离测量
年产1,000,000片晶圆