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PECVD等离子体增强气相沉积

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上海添时科学仪器有限公司

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1200℃等离子增强HPCVD回转炉系统

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紫外可见分光光度计,原子荧光光度计,原子吸收分光光度计,紫外分光光度计,气相色谱仪,液相色谱仪,电子天平,旋光仪,熔点仪

上海添时科学仪器有限公司是一家代理国内外仪器的经销及技术服务的专业公司。国内管式炉,退火炉,气氛炉,真空感应熔炼炉,箱式炉,手套箱,研磨抛光机,电池测试恒温箱,金刚石线切割机,磁控溅射仪,蒸发镀膜,PECVD设备供应商!

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详细信息

    PECVD等离子体增强化学气相沉积是一种利用等离子体来促进气体反应的CVD技术。其特点包括:

    1、低温沉积:PECVD可以在较低的基材温度下进行,因为等离子体提供的能量能够促进气体反应,降低沉积温度的需求。

    2、高沉积速率:等离子体增强了气体反应速率,从而提高了薄膜沉积速率。

    3、良好的膜质量:PECVD沉积的薄膜通常具有较好的均匀性和较低的缺陷密度,适用于需要高质量薄膜的应用。

    4、适应性强:可以沉积多种材料,包括氧化物、氮化物和氟化物等,广泛应用于半导体、光电器件和保护涂层等领域。

    5、控制性好:通过调整等离子体的参数(如功率、气体流量和压力),可以精确控制薄膜的成分和性质。

    加热炉参数

    ▪最高温度:1200ºC(<30min),连续工作温度:1100℃;

    ▪两个PID温度控制器及30段可编程温控系统;

    ▪输入功率:208-240V,单相,最大功率:2.5KW;

    ▪高纯氧化铝纤维保温层可以最大限度降低能耗;

    ▪回转炉旋转速度:2-10rpm;

    ▪炉体开启式设计,以达到对样品快速降温,方便更换炉管。

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