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起订量：
膜厚量测仪 FE-300
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上海波铭科学仪器有限公司成立于2013年，是一家专业从事科学仪器研发、生产、销售于一体的高科技技术企业。公司主要服务于各大高校、科研院所和高*工业客户。主要提供光学仪器如光栅光谱仪、荧光光谱仪，膜厚测量仪，探测器响应分析仪、太阳能电池量子效率测试系统等科研实验室仪器；及光学机械加工设计，电子测量等专业的解决方案服务。公司以“专注质量、用心服务”为核心价值。希望通过我们的专业水平和不懈努力，力争为中国的科研及精密制造事业贡献一股力量。
上海波铭科学仪器公司为美国理波公司（Newport）、日本大塚（Otsukael）正式代理商。配有专业光学技术人员，专注于光学仪器市场的开发和应用，已经为复旦大学、上海交通大学、上海科技大学、南京大学、中国科技大学、北京大学、清华大学、联影医疗、思特威电子等用户提供专业的服务。
公司成立多年来，我们一直秉承以用户需求为核心，在专注光学等核心技术市场的同时，已经为超过一百家高校科研院所和企业提供了成套和部分的解决方案服务。优质、用心的服务赢得了众多用户的信赖和好评。公司不仅仅提供专业的光学解决方案服务，同时还建立了完善的售后服务体系。我们相信，通过我们的不断努力和追求，一定能够实现与高校、企业、科研院所的互利共赢！
详细信息
产品信息
特殊长度
●支持从薄膜到厚膜的各种薄膜厚度
●使用反射光谱分析薄膜厚度
●实现非接触、非破坏的高精度测量，同时体积小、价格低
●简单的条件设置和测量操作！任何人都可以轻松测量薄膜厚度
●通过峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法、优化法等，可以进行多种膜厚测量。
●非线性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以进行光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）。
测量项目
绝对反射率测量
膜厚分析（10层）
光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）
测量对象
功能膜、塑料
透明导电膜（ITO、银纳米线）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、胶粘剂、保护膜、硬涂层、防指纹， 等等。
半导体
化合物半导体、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、蓝宝石等。
表面处理
DLC涂层、防锈剂、防雾剂等。
光学材料
滤光片、增透膜等。
FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有机膜、封装材料）等
其他
HDD、磁带、建筑材料等
原理
测量原理
大冢电子利用光学干涉仪和自有的高精度分光光度计，实现非接触、无损、高速、高精度的薄膜厚度测量。光学干涉测量法是一种使用分光光度计的光学系统获得的反射率来确定光学膜厚的方法，如图 2 所示。以涂在金属基板上的薄膜为例，如图1所示，从目标样品上方入射的光被薄膜表面（R1）反射。此外，穿过薄膜的光在基板（金属）和薄膜界面（R2）处被反射。测量此时由于光程差引起的相移所引起的光学干涉现象，并根据得到的反射光谱和折射率计算膜厚的方法称为光学干涉法。分析方法有四种：峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法和优化法。
规格
| 类型 | 薄膜型 | 标准型 |
| 测量波长范围 | 300-800nm | 450-780nm |
| 测量膜厚范围 （SiO 2换算） | 3nm-35μm | 10nm-35μm |
| 光斑直径 | φ3mm / φ1.2mm | |
| 样本量 | φ200×5（高）mm | |
| 测量时间 | 0.1-10s内 | |
| 电源 | AC100V ± 10% 300VA | |
| 尺寸、重量 | 280 (W) x 570 (D) x 350 (H) 毫米，24 公斤 | |
| 其他 | 参考板，配方创建服务 | |
设备配置
光学家谱
软件画面
