光刻机，亦称为掩膜对准曝光机，是半导体芯片生产过程中至关重要的设备，主要负责将设计好的电路图案精确地转移到硅晶圆上。其在集成电路的生产中扮演着不可替代的角色，确保了集成电路的微小化、精确化和高效化。

光刻机的分类主要基于其曝光方式，大致可分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机。其中，直写式光刻机根据是否使用掩膜版，又可进一步划分为有掩膜直写光刻机和无掩膜直写光刻机。

无掩膜光刻机，作为一种创新的曝光技术，其特点在于摒弃了传统掩膜版的使用。这种光刻机通过直接在硅晶圆上进行曝光，实现了图案的直接转移，大大提高了生产效率和灵活性。无掩膜光刻机的优势在于：

1. 无需掩膜版，节省了掩膜制作成本和时间；

2. 高度灵活，便于快速更换设计和产品；

3. 能够满足2D光刻需求，同时实现2.5D光刻，即灰度光刻，适用于更复杂的光刻工艺。

由于其优势，无掩膜光刻机在多个领域得到了广泛应用。在科学研究领域，它为研究者提供了便捷的实验平台；在定制化生产方面，它能够快速响应市场需求，生产特定产品；在快速原型制造领域，无掩膜光刻机大大缩短了产品研发周期。此外，在电子器件、生物医药、光学元件、微机械等高精尖领域，无掩膜光刻机也发挥着重要作用，为我国半导体产业的发展提供了有力支持。

高精度步进光刻科研版无掩膜光刻机ACA Pro产品亮点：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面积

高精度步进光刻

无掩膜光刻机

高精度步进光刻科研版无掩膜光刻机ACA Pro应用案例