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首页>半导体行业专用仪器>薄膜生长设备>原子层沉积设备

AT 200M 迷你原子层沉积系统-可放入手套箱

型号
AT 200M
参数
价格区间:面议 应用领域:化工,生物产业,能源,电子,综合
北京盈思拓科技有限公司

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技术服务、一般项目:技术开发、技术咨询、技术交流

北京盈思拓科技(Instonetech) 有限公司是材料研究领域的技术服务提供商。 Instone是Institute、Instrument、Instant的缩写,代表公司秉承专业、高效的经营理念,为科研用户提供技术服务。

公司深耕国内科研市场近十年,以中科院等专业院所背景的技术力量为依托, 为国内各大科研机构及材料研究客户提供科研仪器设备和专业技术服务。公司以代理国内外材料化工方向的仪器设备为核心业务,产品覆盖材料制备、表征、光、热、 电、磁等研究领域。

公司在提供专业仪器设备的基础上,根据客户的不同需求,提供“从0到1”的咨询和建设服务(实验室设备及家具布局、通风、洁净及气路等),为新能源电池、电子陶 瓷、半导体材料、高分子材料等用户提供一站式解决方案。

此外,公司旗下拥有友研精密加工平台,并拥有专业的技术工程师为实验设备提供 系统集成服务,提升科研实验的自动化水平,为用户提供增值服务。


详细信息

 

  • 原子层沉积系统ALD

  • 市场上占地面积最小的 ALD(原子层沉积)工具。AT200M 体积小巧,可以放入手套箱中,因此是湿气或空气敏感沉积的解决方案。

  • 占地面积小(~ 15 in3 或 38.1 cm3)

  • 半导体级元件

  • 金属密封管路

  • 通风前驱体外壳

  • 兼容高温的快速脉冲 ALD 阀,带有超快速 MFC,用于集成惰性气体吹扫

  • 前驱体(最高 150°C),歧管,腔室加热以确保无冷凝。

  • 强大的 PLC 驱动用户界面

  • 不锈钢腔室可加热至 300°C。

 

规格:

  • 腔室温度从 RT 到 300°C ± 1 °C

  • 前驱体温度从 RT 到 150°C ± 2°C(带加热夹套)

  • 市场上占地面积最小(1.6 平方英尺),台式安装,兼容洁净室,也适合手套箱。

  • 系统维护简单,公用设施和前驱体使用量低。

  • 腔室容积小

  • 非常快速的循环能力。

  • 完整的硬件和软件互锁,即使在多用户环境中也能安全操作

 

 

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价格区间 面议
应用领域 化工,生物产业,能源,电子,综合
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