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AT410 ALD原子层沉积设备
中级会员第1年
经销商北京盈思拓科技(Instonetech) 有限公司是材料研究领域的技术服务提供商。 Instone是Institute、Instrument、Instant的缩写,代表公司秉承专业、高效的经营理念,为科研用户提供技术服务。
公司深耕国内科研市场近十年,以中科院等专业院所背景的技术力量为依托, 为国内各大科研机构及材料研究客户提供科研仪器设备和专业技术服务。公司以代理国内外材料化工方向的仪器设备为核心业务,产品覆盖材料制备、表征、光、热、 电、磁等研究领域。
公司在提供专业仪器设备的基础上,根据客户的不同需求,提供“从0到1”的咨询和建设服务(实验室设备及家具布局、通风、洁净及气路等),为新能源电池、电子陶 瓷、半导体材料、高分子材料等用户提供一站式解决方案。
此外,公司旗下拥有友研精密加工平台,并拥有专业的技术工程师为实验设备提供 系统集成服务,提升科研实验的自动化水平,为用户提供增值服务。
ALD原子层沉积设备
产品特性:
AT410 小尺寸桌面系统
兼容高温的快速脉冲 ALD 阀,具有超快 MFC,用于集成惰性气体吹扫。
4 英寸圆形卡盘可定制,适用于较小尺寸或其他形状(11 毫米高)。
3 种有机金属前驱体和 2 种(最多 3 种)反反应物。
整个加热管路(从前驱体到腔室)。
全铝(半导体级)腔室 \u2012 范围高达 320°C
7 英寸触摸屏 PLC控制器(无需PC)
产品规格:
腔室温度从 RT 到 320°C ± 1°C;前驱体温度从 RT 到 180°C ± 2°C(带加热夹套)
市场上占地面积最小(2.5 平方英尺)
系统维护简单
流线型腔室设计和小腔室容积
提供快速循环能力(高达 1.2nm/min Al2O3)和高曝光、深渗透处理
完整的硬件和软件互锁,即使在多用户环境中也能安全操作
ALD原子层沉积设备