小型超纯水设备工作原理如下：水进入纯化系统后，主要部分流入树脂 / 膜内部，另一部分沿模板外侧流动，以洗去透出膜外的离子；树脂截留水中的溶存离子；被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动；阳离子透过阳离子膜，排出树脂 / 膜之外；阴离子透过阴离子膜，排出树脂 / 膜之外；浓缩了的离子从废水流路中排出；去离子水从树脂 / 膜内流出。

该设备具有以下特点：整体化程度高，易于扩展，增加膜数量即可增加处理量；自动化程度高，遇故障立即自停，具备自动保护功能；膜组件为复合膜卷制而成，表现出更高的溶质分离率和透过速率；能耗低，水利用率高，运行成本低；结构合理，占地面积少；现今的膜保护系统，在设备关机时，淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净，延长膜寿命；系统无易损部件，无须大量维修，运行长期有效；设备设计有膜清洗系统和阻垢系统。

医药行业制备超纯水的工艺大致有以下几种：一是原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透设备→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点；二是原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→PH 调节→中间水箱→第二级反渗透（反渗透膜表面带正电荷）→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点；三是原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI 系统→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点。

主要用途包括超纯材料和超纯试剂的生产和清洗、电子产品的生产和清洗、电池产品的生产、半导体产品的生产和清洗、电路板的生产和清洗以及其他高科技精细产品的生产。

水质标准方面，出水水质电阻率 > 15MΩ.cm。超纯水水质分为五个行业标准，分别为 18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

制取要求上，新兴的光电材料生产、加工、清洗，LCD 液晶显示屏、PDP 等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB 线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更为严格的要求。