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Aridus3 膜去溶雾化系统
初级会员第7年
生产厂家水质仪器合作品牌主要有:
实验室分析器品牌主要有:
半导体测试设备
物料 电子元器件、芯片
电子仪表
Aridus3 膜去溶雾化系统采用低流量、微量雾化器,只需极低量样品就能分析所有元素,同时系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品,废液反抽技术进一步提高了稳定性。
可移动的模块化膜去溶设计,拆装和清洗方便
带盖保护的PFA雾化室,避免静电干扰
膜去溶技术,有效减少溶剂对ICP-MS的干扰,显著降低氧化物和氢化物水平
大大改善信号的稳定性,即使是有机溶剂(如甲醇)
提高ICP-MS的灵敏度4-10倍以上
可选配QuickWash3清洗装置,有效抑制记忆效应
采用质量流量控制器(MFC)精准控制气体流量
可通过Aridus Link软件远程控制加热温度和气体流速
实验完成后可启动气体自动关闭程序,大大节约氩气成本
Aridus 3 膜去溶雾化系统:专门为ICP-MS进样分析研发设计的进样系统,其能够最大增强10倍信号强度,同时能够去除溶剂干扰,极大地降低信号基线,基本上消除氢氧化物干扰。
Aridus进样系统是把微量雾化器和膜去溶技术相结合,具有如下特性:
具有膜去溶的低流量(<100 µL/min)的微量雾化器
减少了溶剂对ICP-MS的干扰
家氮以增强ICP-MS的信号
所有于样品相关的部件均为惰性材料制成
泵抽雾化室和溶剂蒸汽瓶的废液
可与所有ICP-MS 相联
可与ASX-100微量自动进样器想配
Aridus进样系统采用的低流量、氟材料的微量雾化器,而其性能优于高流量的常用的同心型雾化器。以大约60 µL/min常用样品提升量,Aridus只需小于1mL的样品就能分析所有的元素。同时Aridus全部采用惰性材料,可应用于含HF酸的样品。采用泵抽出雾化室和溶剂蒸汽瓶的废液进一步提高了稳定性。
从雾化室出来的样品气溶胶进入加热的氟材料隔膜,用一反向氩“穿透气”带走从膜渗透出来的溶剂蒸汽。
减小了ICP-MS的干扰
Aridus膜去溶能有效去除样品溶剂蒸汽,显著地减少诸如来自水中的氧化物、氢化物的干扰,下图比较了标准气动雾化器与Aridus系统的CeO/Ce 比率,该CeO/Ce比率从3% 减少为0.05%。
其他水基的干扰ArH +(39)、CO2+(44)、ArO+(56)有明显的减少,从而使Li、Na、Mg、K、Ca、Fe的检出限得到明显改善。
配备Aridus的ICP-MS检出限:(在普通环境、非冷焰的条件下,ELAN6000型ICP-MS)
Element | m/z | Detection Limit (ng/L) | Element | m/z | Detection Limit (ng/L) |
Li | 7 | 0.4 | K | 39 | 8 |
Na | 23 | 15 | Ca | 44 | 300 |
Mg | 24 | 6 | Fe | 56 | 10 |
增强ICP-MS的信号
在膜去溶后加如少量(5 到 20 mL/Min)的氮能提高分析信号。
的信号稳定性
Aridus的1小时信号稳定性:RSD<3%(用Mg24、Co59、Ce140、Pb208 4个通常调谐元素来测定)
Aridus的10小时信号稳定性:RSD<5%(用Mg24、Co59、Ce140、Pb208 4个通常调谐元素来测定)