作用：去除原水中的悬浮物、泥沙、铁锈等颗粒杂质，降低水的浊度。多介质过滤器一般由无烟煤、石英砂等不同颗粒大小的滤料组成，通过物理过滤的方式截留杂质。

举例：当原水通过多介质过滤器时，较大颗粒的杂质被滤料层阻挡，使出水的浊度明显降低，为后续的处理环节提供较为清洁的水源。

作用：吸附原水中的有机物、余氯、异味等，改善水的口感和化学性质。活性炭具有巨大的比表面积和丰富的微孔结构，能够有效地吸附水中的各种污染物。

举例：如果原水中含有余氯，会对后续的反渗透膜造成损害，通过活性炭过滤器可以去除余氯，保护反渗透膜。同时，活性炭还可以吸附水中的有机物，降低水中的 COD（化学需氧量）值。

作用：去除原水中的钙、镁离子，降低水的硬度，防止在后续处理过程中形成水垢。硬水中的钙、镁离子在加热或与其他物质反应时，会形成碳酸钙、碳酸镁等沉淀物，即水垢，影响设备的运行效率和寿命。

举例：在半导体生产过程中，高硬度的水可能会导致管道、设备结垢，影响水的流量和压力，甚至损坏设备。软化器通过离子交换的方式，将水中的钙、镁离子置换为钠离子，从而降低水的硬度。

作用：进一步去除水中的微小颗粒杂质，保护反渗透膜。保安过滤器通常采用滤芯过滤的方式，滤芯的精度一般为 5 微米或 1 微米。

举例：经过预处理后的水进入保安过滤器，细小的颗粒杂质被滤芯拦截，确保进入反渗透膜的水的清洁度，防止反渗透膜被颗粒杂质划伤或堵塞。

作用：反渗透是超纯水设备的核心工艺之一，它利用半透膜的原理，在压力的作用下，使水通过半透膜而盐分等杂质被截留，从而达到去除水中各种离子、有机物、微生物等的目的，生产出高纯度的水。

举例：反渗透膜的孔径非常小，只有 0.0001 微米左右，可以有效地去除水中的溶解性固体、细菌、病毒等。反渗透装置一般由反渗透膜元件、压力容器、高压泵等组成。在半导体工业中，反渗透水通常作为进一步处理的水源，以满足更高的水质要求。

作用：通过离子交换的方式，进一步去除水中的离子杂质，使水的电阻率达到更高的水平。离子交换树脂通常分为阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，分别用于去除水中的阳离子和阴离子。

举例：当反渗透水通过离子交换树脂时，水中的阳离子（如钠离子、钙离子等）与阳离子交换树脂中的氢离子进行交换，水中的阴离子（如氯离子、硫酸根离子等）与阴离子交换树脂中的氢氧根离子进行交换，从而使水中的离子杂质被去除，水的电阻率得到提高。在半导体工业中，离子交换树脂通常用于生产电阻率高达 18.2 MΩ・cm 的超纯水。

作用：EDI 是一种新型的深度除盐技术，它结合了离子交换和电渗析的原理，在电场的作用下，使水中的离子通过离子交换膜迁移到浓水室，从而实现水的深度除盐。EDI 装置具有连续运行、无需化学再生、出水水质稳定等优点。

举例：在半导体工业中，EDI 装置通常与离子交换树脂联合使用，进一步提高水的电阻率和纯度。EDI 装置可以去除水中的微量离子杂质，使超纯水的水质达到更高的标准，满足半导体生产过程中对水质的严格要求。

作用：对超纯水进行杀菌消毒，防止微生物污染。紫外线杀菌器利用紫外线的杀菌作用，破坏微生物的 DNA 结构，使其失去活性。

举例：经过深度除盐处理后的超纯水可能会在储存和输送过程中受到微生物的污染，通过紫外线杀菌器可以有效地杀灭水中的细菌、病毒等微生物，保证超纯水的卫生质量。在半导体工业中，微生物污染可能会导致晶圆表面出现缺陷，影响产品质量，因此紫外线杀菌器是超纯水设备中的一部分。

作用：去除超纯水中的微小颗粒和胶体物质，进一步提高水的纯度。超滤装置采用超滤膜过滤的方式，超滤膜的孔径一般在 0.01 微米至 0.1 微米之间，可以有效地去除水中的微小颗粒、胶体、细菌等杂质。

举例：在半导体生产过程中，超纯水的纯度要求非常高，任何微小的颗粒或胶体物质都可能对产品质量产生影响。超滤装置可以作为最后一道屏障，确保超纯水的纯度达到半导体工业的要求。

作用：安装在超纯水设备的出水口，进一步去除水中的残留颗粒杂质，确保出水的质量。终端过滤器通常采用微孔滤芯过滤的方式，滤芯的精度可以根据实际需要进行选择。

举例：在半导体工业中，终端过滤器可以选择 0.22 微米或 0.1 微米的滤芯，以确保超纯水在输送到生产设备之前没有任何颗粒杂质。终端过滤器的更换周期一般较短，需要定期进行检查和更换，以保证超纯水的质量。