一、产品介绍：

CIF推出全新一代实验室型等离子体清洗设备，传统等离子体清洗设备设计理念，可中试生产、模拟生产条件，几乎具备等离子体清洗设备所有的功能。采用顶置真空仓，上开盖下压式铰链开关方式，上置式360度自由取放样品托盘设计，具有较大的腔体尺寸和有效样品处理面积，使用成本低，性价比高，处理快速高效，特别适合于大学，科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。               

二、产品特点

u 7寸彩色触摸屏互动操作界面，图形化用户操作界面显示，自动监测工艺参数状态，20个配方程序，可存储、输出、追溯工艺数据，机器运行、停止提示。

u PLC工控机控制整个清洗过程，手动、自动两种工作模式。

u 石英真空仓，真空管路系统采用316不锈钢材质，耐腐蚀无污染。

u 采用质量流量计实现对气体输入精准控制，改变传统浮子流量计控制气体流量不准确问题。

u HEPA高效过滤，气体返填吹扫，防止二次污染。

u 60度倾角操作界面设计，符合人体功能学，操作方便，界面友好。

u 顶置真空仓，上开盖设计，下压式铰链开关方式，开关盖方便。

u 采用花洒式多孔进气方式，改变传统等离子清洗机单孔进气不均匀问题。

u 上置式360度自由水平取放样品托盘设计，符合人体功能学，操作更方便。

u 有效清洗面积大，可清洗直径8寸硅片。

u 可处理不同几何形状、表面不同粗糙程度的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等样品，进行清洗和改性。

u 安全保护，仓门打开，自动关闭电源。

三、技术参数