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RTP快速退火炉600V
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本所自开发RTP快速退火系列产品以来已近30年。自1988年受中科院委托研发光照快速热处理设备以来与清华，北大，浙大，半导体所，微电子所，物理所等高校研究所共同进步，为华为，三安光电，中电科等半导体企业保驾护航，也被一些海外的教授专家所青睐。如香港理工大学，香港中文大学，香港科技大学。美国堪萨斯州立大学，美国扬斯顿州立大学和新加坡南洋理工大学也有数台在科研教学一线。
详细信息
RTP快速退火炉600V
| 性能指标 | 配备状态 | ||||
| 温度范围 | 150 – 1250 ℃ | ||||
| 升温速率 | 2 — 150℃/秒可调 | ||||
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| 样品尺寸 | 8寸（多温区控制） | ||||
| 降温速率 | 80℃/秒 | ||||
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| 温度 | ±2℃ | ||||
| 1100℃连续工作时间 | 双闭环温度控制＞400秒 | ||||
| 光源 | 卤钨灯 | ||||
| 电源 | 380 V 40A 三相 4线(三火线, 零线) | ||||
| 水源 | 自来水或循环水, 水压 1—3 kg / 平方厘米, 流量6-8升/分 | ||||
| 压力 | 常压 | ||||
| 可编程配气系统 | 1路MFC（可增加） | ||||
