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CFE 美国 AP Tech 冷阴极 磁控溅射阴极 真空
- 型号
- CFE
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美国 AP Tech 冷阴极 磁控溅射阴极 真空
美国 AP Tech 冷阴极 磁控溅射阴极 真空
与热离子和热场发射器不同，CFE在室温下工作。当电子响应于强电场的施加而发射时，就会发生场发射。为了实现这种高场，单晶钨被蚀刻到显微镜下锋利的尖。CFE是非常高亮度的光源，因此在需要高电流密度和可以实现高真空条件的应用中表现出色。
在APT，我们在内部种植和加工自己的单晶钨。我们的蚀刻工艺可以根据客户的要求进行定制，并受到严格控制，以确保质量和一致性。APT可以为CFE提供任何发射极-基极/抑制器配置，包括FEI/Philips、Denka、Hitachi、JEOL和自定义配置。
AP Tech APT 生产镓液态金属离子源 （Ga LMIS） CeBix® Cold Field Emitters (CFE) Ion Sources Thermionic Emitters (TE) Zirconiated Tungsten (ZrOW) Thermal Field Emitters (TFE) 六硼化铈 （CeBix®） 的 Sl.均 LaB6 六硼化镧 （LaB6） 冷场发射器 （CFE） 冷阴极 提高空间分辨率 热离子发射器 （TE） 热离子发射阴极 电子源 离子源 离子源阴极 稳定发射和长寿命的电子束应用 美国 AP TECH 肖特基源 适用于需要高亮度 锆化钨（ZrOW） 锆钨 （ZrOW） 热场发射器 （TFE） 阴极
