$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>无掩模光刻机/直写光刻机

ABN-MLM-001 无掩模光刻机

型号
ABN-MLM-001
艾博纳微纳米科技(江苏)有限责任

顶级会员1年 

生产厂家

该企业相似产品

运动控制机柜

在线询价

体式显微镜

在线询价

倒置金相显微镜

在线询价

单色仪

在线询价

V型夹持架

在线询价

V型夹持架

在线询价

Z轴平移安装座

在线询价

V型夹持架

在线询价
探针台,二维材料转移台,金相显微镜,步进电机,步进电机控制器,原子力显微镜,拉曼光谱仪

艾博纳微纳米科技(江苏)有限公司致力于科研器材的研发与生产,以国际科研单位力量为支点,凝聚社会力量共同谋求推动全“人类科学发展与进步”。艾博纳微纳米科技(江苏)有限公司创立于中国江苏,用户群体分布于世界各国以及国内大陆大部分地区。公司主营业务有物理科研器材、二维材料转移装置、二维材料微纳加工设备、微纳米光学系统包括远场以及近场全波段光学显微系统研发、国产原子力显微镜、耗材(包含氮化硼国产高质量生长等各种晶体、硅片、超干净蓝膜胶带等)、其他二维材料制备相关设备如等离子处理仪、显像设备等。所有经由我司售卖的产品均享受售后保障,用户可放心购买。

 

详细信息

产品名称:无掩模光刻机

产品型号:ABN-MLM-001

产品简介:无掩膜光刻系统利用计算机生成的数字掩模图形,并通过声光调制器(AOM)输出,经过声光扫描器和反射镜将光束引导至光学投影系统。系统将高精度、强度可调的激光束投射到晶圆或掩模板的表面,实现对抗蚀材料的可变剂量曝光。激光束根据预设的设计图形直接对基片表面进行曝光,显影后在抗蚀层上形成所需的图案。这种技术无需传统的物理掩模,因此大大缩短了制作周期,同时降低了设计和生产成本。尤其是在快速迭代设计的场景中,显现出极大的灵活性和效率。通过计算机控制,可以实现亚微米级别的精确加工,适用于微纳米结构制造。

无掩膜光刻技术广泛应用于以下领域:

· 大规模集成电路(IC)掩模版制作实现高精度、快速迭代的掩模版设计与制作

· 微纳加工适用于MEMS(微机电系统)元件的精密图形写入

· LED产业在高精度LED芯片设计与制造中具有重要作用。

· 生物芯片用于生物芯片中微结构的快速成像与制备。

相较于传统掩膜光刻技术,无掩膜光刻系统具有更高的灵活性、更短的开发周期以及更低的运营成本,使其成为现代微纳制造中的重要工具之一。

设备技术指标:
•工作波长:405 nm
• 激光功率:最大300mW
• 分辨率:0.3 μm
• 对准精度:正面0.1μm(1mm图形范围内),背面1um(2.5寸)
• 扫描速度:3-150 mm²/min
• 样品尺寸:最大 8英寸
• 具有灰度曝光功能


相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :