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自动压力跟踪绝热量热仪(LowPhi ARC)
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实验室分析器品牌主要有:
半导体测试设备
物料 电子元器件、芯片
电子仪表
自动压力跟踪绝热量热仪(LowPhi ARC)
仪器简介:
英国危险评估实验室HEL在陶氏化学第一代ARC的基础上,根据自己长期从事安全评估工作的应用实践,开发出了更专业的第二代 ARC绝热量热仪PHiTEC I,以及第三代低PHi值 (φ)绝热量热仪PHiTEC II。
目前,英国HEL集团已经成为全球Z大的化工及制药安全仪器设备制造商及解决方案提供商,是低PHi值 (φ)绝热量热仪的创shi者,并开发了世界上zuixianjin的低PHi值绝热量热仪PHiTEC II,HEL集团的PHiTEC系列绝热量热仪在全球500多家制药,化工,**等研究机构得到广泛使用,其中PHiTEC II系列凭借其jing准可靠的压力跟踪功能,反应池功能多样性,外部反应釜及气体分析仪(等设备)的联用,使其成为研究化工过程安全,工艺放大和危险品评价的终级选择。
技术参数:
测温范围:-80°C~500°C(更高/更低温度可定制,超低温条件取决于所配套的制冷装置)
温度稳定性(恒温模式时):±0.001°C
温度准确度(直接样品温度测试模式时):±0.001°C
温度跟踪:标准50°C/min;低φ 200°C/min;400°C/min
测压范围:0~300Bar(可选1000Bar或定制更大范围的压力传感器)
压力跟踪:真空~200 Bar/min,选配700 Bar/min(PHiTEC II)
压力精度:0.01Bar;压力准确度:±0.05%
放热检测灵敏度:0.002°C ~ 0.2°C/min
最大样品量:(根据反应池体积)0.5 ~ 80g
搅拌模式:标准电磁搅拌0~500rpm,可选机械搅拌(准确模拟实际工况)
操作模式:HWS(加热-等待-扫描),RAMP(快速扫描),ISO(恒温)
低φ样品池 :可达1.05 (建议用于PHiTEC II),并且仍适用于最大压力条件
(普通ARC的低φ样品池仅接近φ 1.1,且操作压力为标准样品池的1/3~1/2)
外形规格:30cm x 37cm x 50cm
电源要求:单相交流220V,13A
主要特点:
自动压力跟踪*:PHiTEC II具有duchuang的温度-压力双重快速跟踪功能,传统的ARC技术仅有单一的最大速率20°C/min的温度跟踪功能,PHiTEC II不仅温度跟踪速率可以达200°C/min,同时具有200Bar/min(可选700Bar/min)的压力跟踪能力,使其不仅可用于高能材料反应动力学研究,还可用于大型储运及生产等工艺体系的泄爆口(VENT SIZING)设计等更广泛的领域。
PHiTECH II可以使用低φ值(≤1.05)样品池,最大容量可达110毫升,绝热特性及检测数据更加接近大型反应体系的真实工况,并且全自动压力跟踪功能可以确保内外压平衡,从而有效地保证了操作安全性。
普通ARC不具备压力跟踪功能,如使用低φ样品池(极限值1.1),最大操作压力必须降低,但因反应规模比标准样品池大很多,安全性将更加令人担忧。
功能兼容性:PHiTEC II向下兼容PHiTEC I 、TSu(快速筛选量热仪),可完成从材料筛选、精确比例放大、反应器及储运条件设计等一系列工作中必要的安全评估工作。
*注:PHiTEC I/II可测试18650等标准规格电池,如须测试大体积的动力电池组等样品,可选用HEL公司的BTC专用大体积电池绝热量热仪。
其余功能请参考PHITEC I