《电子工业用净水设备化工用去离子水机工艺》

电子工业用净水设备化工用去离子水机均采用了一系列复杂且精密的工艺，以满足各自行业对高品质水的特殊需求。电子工业用净水设备工艺：首先是预处理工艺。原水进入设备后，先通过机械过滤器，如多介质过滤器，其中的石英砂、活性炭等滤料可去除水中的大颗粒悬浮物、胶体以及部分有机物和余氯，这能有效保护后续的精密过滤和膜处理单元。接着是超滤工艺，超滤膜凭借其微小的孔径，可以过滤掉水中的大分子有机物、胶体、细菌和病毒等，进一步净化水质。然后进入反渗透工艺，这是核心环节之一，在高压作用下，水通过反渗透膜，而绝大多数的溶解性盐类、重金属离子、微生物等杂质被截留，使水的纯度大幅提升，此时水的电阻率可达到一定水平，但对于电子工业某些超精密环节仍不够。最后通过离子交换树脂床或连续电去离子（EDI）工艺进行深度除杂，离子交换树脂通过与水中离子进行交换反应，去除残余的少量离子，EDI 则结合了离子交换和电渗析技术，在电场作用下进一步去除离子并实现树脂的自动再生，最终使水的电阻率达到 18.2 兆欧·厘米甚至更高，满足电子芯片制造、高精度电子元件生产等对超纯水高的要求，防止水中杂质对电子器件性能产生哪怕微小的影响。化工用去离子水机工艺：原水先经过絮凝沉淀工艺，通过添加絮凝剂使水中的悬浮颗粒和胶体聚集成较大颗粒沉淀下来，初步降低水的浊度。随后进行过滤工艺，如砂滤和活性炭滤，去除水中剩余的悬浮物、有机物和余氯。之后采用离子交换工艺，分为阳离子交换和阴离子交换。阳离子交换树脂用氢离子交换水中的钙、镁、铁等阳离子，阴离子交换树脂用氢氧根离子交换水中的氯离子、硫酸根离子等阴离子，经过这一过程，水中的大部分离子被去除，硬度和盐分显著降低，有效防止在化工生产中因水中杂质离子引发的副反应，如在化学反应中影响催化剂活性、导致产品纯度下降或产生沉淀堵塞管道等问题。部分化工用去离子水机还会在离子交换后设置反渗透工艺进行进一步的净化和除盐，以满足更高要求的化工生产需求，如某些精细化工产品的制造或对水质要求极为严格的化工工艺过程。