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徕卡 EM RES102多功能离子减薄仪
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赛诺新创（北京）科技有限公司是一家专业从事实验仪器设备代理、销售及技术咨询服务的企业，公司产品应用和服务主要涉及金属、橡胶、塑料、石油、建材、汽车、电子、电工、家电、医疗、纺织、包装、印刷等领域的材料和产品方面的相关测试、检验、分析、在线检测项目。我们的使命——努力提升我国分析实验仪器品质和应用水平,培育现代仪器分析实验与技术应用人才。公司与世界优秀仪器厂商保持长期的合作关系，形成了在销售网络、技术支持、人员培训等方面完善的服务体系。
我们坚持“以人为本,科学发展”的原则，拥有一支资深的项目运作经验的精英管理团队，持续地、多元化地为客户的现代分析实验室采购项目提供应用解决方案、技术支持，创新和深化与客户的项目合作领域。
我们以“诚信、务实、奉献、共赢”的价值理念努力为客户创造价值，真诚携手客户共同成长，共创美好未来。
详细信息
徕卡 EM RES102多功能离子减薄仪
使用徕卡 EM RES102，使您的样品具备高水平的灵活性，具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。*的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。
各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺，徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。
徕卡 EM RES102多功能离子减薄仪主要优势
*的解决方案
Leica EMRES102是一款*的离子束研磨设备，带有两个鞍形场离子源，离子束能量可调， 以获得离子研磨结果。这一款独立的桌面型设备集 TEM，SEM和LM样品制备功能于 一体，这与市面上其它设备截然不同。除了高能量离子研磨功能外，徕卡EM RES102还可 用于低能量极温和的离子束研磨过程。
TEM 样品
• 单面或双面离子束研磨适用于材料的离子束减薄过程。鞍形 场离子源可获得很大的电子束透明薄区。
• 程序化控制的离子入射角度变化，适用于完成特殊的样品制 备目的，例如FIB样品清洁，以减少无定形非晶层。
SEM 或 LM 样品
• 离子束抛光大抛光区域可达25mm。
• 离子束清洁适用于对样品表面污染层或机械抛光后表面产 生的涂抹层进行清洁。
• 样品表面衬度增强作用，可替代化学刻蚀作用。
• 35°斜坡切割用于制备多层样品的截面。
• 90°斜坡切割用于制备复合结构的半导体样品或组装器件， 这种方式所需的机械预加工工作少 。
主要特点
• 一台桌面型设备，集TEM，SEM和LM样品制备功能于一体
• 通过局域网实现对离子研磨过程远程遥控
• 离子束抛光区域很大，可达25mm
• 离子研磨过程参数全电脑控制
