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MetriLiDAR MM-X系列微型激光干涉仪
杭州雷迈科技有限公司（Labmates Technology）成立于2010年，公司致力于实验室*科学仪器和工业专用设备的研发、销售和技术服务，产品应用于新材料、电子、半导体、化工、光伏、玻璃等众多行业及高等院校和科研机构。
公司主营产品包括铁电材料测试仪、宽频介电阻抗谱仪、薄膜压电测试仪、3D轮廓仪、显微CT、光谱分析仪、X射线衍射仪和分光光度仪等分析测试仪器和设备。我们关注科技发展趋势和动态，与时俱进引进新兴功能性材料的分析和表征整体解决方案，已与众多高校及科研院所建立起技术交流和合作关系，以专业应用技术为优势，以产品整体解决方案为己长，为用户提供可靠的产品和有效的服务。
经过团队每一个成员的持续努力和奋斗，公司不断拓展业务范围和知识的边界，稳步发展。专业的销售和技术服务工程师，结合*的产品和诚实守信的经营理念，赢得广大客户的认可。特别在不断涌现的新材料和技术方面，我们紧跟步伐，不断开拓，竭诚为广大客户提供优质的产品和服务！
我们的愿景是通过提供以科学为基础的高品质、新技术的产品和服务，成为*实验室的专业合作伙伴，此正是我们的英文名称“Labmates”之寓意。我们真诚感谢客户的支持，期待分享一个成功的未来。
详细信息
MetriLiDAR MM-X系列微型激光干涉仪基于激光干涉原理，激光干涉仪是高精度、高灵敏度的测量仪器，广泛应用在先进制造领域。MetriLiDAR MM-X系列微型激光干涉仪采用了自主研发的高度集成化的激光传感平台，以工业应用中最重要的线型标定为核心,将干涉仪的参考光路内置于干涉仪中，将光学相干光路等集成在单个光电芯片上，一步实现激光干涉仪的线型测长和标定功能，从而简化了干涉仪系统测试时的复杂程度。
MetriLiDAR MM-X系列微型激光干涉仪半导体典型应用
●超高精度位置跟踪应用
在光刻过程中,分辨率是反映光刻机理论上可识别的最小特征尺寸的重要指标,也决定着运动系统的控制精度。由于整个曝光过程中要求系统以恒定的速度运行,对速度的均匀性要求较高,因此对控制的精度的要求更为苛刻,通常情况下,匀速性由跟踪误差反映,无掩模扫描式光刻系统的控制要满足纳米级精度, 工件台自身的控制也要求达到该数量级，并且工件台控制系统的跟踪定位精度也是影响套刻精度的重要因素,预防反复曝光芯片刻蚀过程中,发生偏离导致电路图案扭曲影响芯片性能。
l 平面检测
在光刻测量过程中,硅片在高速运动情况下,容易发生形变,从而影响硅片的平面度,降低光刻精度。为了优化硅片平台的操作模式,需要一种纳米级超高精度、无接触的形变量测量方式。
