刻画小线宽

1.5um

刻画大面积

180mm

刻画图案误差

±0.5um（根据刻画面积而定）

刻画深度

0.05um -10um（根据图案宽度而定）

刻画深度误差

±0.001um

材料

硅、锗、硒化锌、硫化锌等红外材料

我们可以根据客户要求，在红外材料抛光基片表面   加工码盘,相位光栅,投射光栅，反射光栅、分划版,分辨 率版等产品

技术要求

商业级

精密级

高精密级

尺寸范围

100-600mm

100-600mm

100-600mm

尺寸公差

土0.1mm

土0.025mm

土0.01mm

厚度公差

土0.1mm

土0.025mm

土0.01mm

角度公差

±10´

±1´

±30´´

表面质量

60-40

40-20

20-10

表面精度

2.0λ

λ/10

λ/20

倒边

0.1-0.5mm*45°

材料

K9/熔融石英或其它红外光学材料