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透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口
产品概述：
与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。

现在SHNTI可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下：
外框尺寸:

• 3 mm x 3 mm （窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：50 nm）
• 3 mm x 3 mm （窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm）
• 3 mm x 3 mm （窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：100 nm）
• 窗口类别：双缝、九窗格（3×3阵列）

边框厚度： 200μm、381μm。 
Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm
SHNTI也可以为用户定制产品（30-200nm），但要100片起订。
本产品为一次性产品，SHNTI不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。

技术指标：
表面平整度：
我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。*适用于TEM表征。

亲水性
该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。



温度特性：
氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。

化学特性：
氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。

应用简介和优点：
1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。
2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。
3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。
4、 背景氮化硅无定形、无特征。
5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。
6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。
7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。
8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。

氮化硅薄膜应用范围非常广，甚至有时使不可能变为可能，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：
惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。
作为耐用基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。
作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。
聚焦离子束（FIB）样本的装载，我们*使用多孔薄膜，而非不间断薄膜。


许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中*。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现氧化硅薄膜窗格的价值。
优点：
• SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。
• x-射线显微镜中，装载多个分析样的*方法。
• 无氮
高温应用，氮化硅薄膜在1000°C高温下仍能保持稳定的性能。

使用前清洁：
氮化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离，并对外框进行打磨，因此这些微小碎片不可避免。尽管如此，我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。

如果用户确实需要对这些碎片进行清理，我们建议用H2SO4 : H2O2 （1:1）溶液清洁有机物，用H2O:HCl: H2O2 （5:3:3）溶液清洁金属。

通常不能用超声波清洗器清洁薄膜，因超声波可能使其粉碎性破裂。

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