$item.Name

首页>实验室常用设备>净化/清洗/消毒>臭氧机

T10x10/OES UVOCS紫外臭氧清洗机

型号
T10x10/OES
迈可诺技术有限公司

中级会员11年 

代理商

该企业相似产品

Uvocs紫外光清洗机

在线询价
匀胶机,光刻机,显影机,等离子清洗机,紫外臭氧清洗机,紫外固化箱,压片机,等离子去胶机,刻蚀机,加热板

半导体化工领域专业实验设备供应商:迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司,专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务,帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定,尊重他们的决定,并协助他们实现高效率的科研成果,追求丰富有意义的生活。



详细信息

紫外臭氧清洗工作原理:

清洗设备的核心是低压石英汞灯,产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生,有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解。激发的有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体,比如CO2,H2O等。整个过程在室温**发生,并且只需要1到几分钟完成。

*注1:白色氧化铝暴露在UV能量下会变黄。这种现象是由于基材吸收UV能量, 而不是一种涂层。这种氧化铝在加热情况下会转化为他原来的颜色。

**注2:清洗元件温度的上升取决清洗过程的时间长度。在大多数应用,元件温度可以视为室温。

UV紫外臭氧清洗的特点:

· 超洁净表面

· 室温操作

· 快速-大多数应用10分钟内可完成

· 运行简单

· 超低采购成本和zui小运行成本

· 10×10 英寸(25.4×25.4cm)

· 220

T10X10紫外臭氧清洗机是一款台式的紫外臭氧清洗设备。通过紫外线(185nm和254nm)和臭氧清洗基材表面,能够简单,经济,快速获得超洁净表面。能去除大多数无机基材(比如石英,硅片,金,镍,铝,砷化镓,氧化铝*等)上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时,紫外清洗非常理想。获得超洁净的表面,只需要在传统清洗后,再用紫外臭氧清洗几分钟。

 T10X10紫外臭氧清洗机的属性:

UVOC紫外清洗机

 

Model

型号  

T10x10/OES

光照尺寸 

10" x 10"(25.4×25.4cm)

有效面积:

100 sq. in.

宽:

14"

深:

23 3/4"

高:

14.5"

托盘推出深度:

33"

滑行托盘: 

1

结构:

箱体和托盘为不锈钢结构

功耗:

110Vac / 60Hz 5A Max  or 230Vac / 50Hz 2.5 amp Max

臭氧排气系统:

有臭氧排气系统

排气口尺寸:

3" 直径

排气需要:

100cfm

定时器: 

在开始或结束时峰鸣

"ON"指示器:

 

相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :