利用单颗粒ICP-MS 在反应模式下测定半导体有机溶剂中的含铁纳米颗粒
2021-05-06670半导体产品中的金属污染使产品品质降低。半导体宽度越小，对金属污染物的容忍度越低。常见的金属污染是过渡金属元素和碱金属元素。过渡金属元素往往遍布半导体材料中并在表面形成多多种氧化物，其中铁是较常见的污染物。
使用NexION 1100 ICP-MS检测和验证药品中的元素杂质
制药/生物制药检测
Avio 200 ICP-OES测定固态电解质中杂质元素含量
电池检测使用NexION 1100 ICP-MS直接测定高纯氧化铽中的稀土杂质
材料检测
使用珀金埃尔默Pyris™ DSC 9分析聚乙烯再生料
石油/化工检测
商用涂料中VOC含量分析：顶空-气相（FID）法
石油/化工检测
使用Pyris™ TGA 9测定药用辅料的干燥失重
制药/生物制药检测
使用Spotlight 400红外成像系统鉴定面粉中添加的增筋剂
食品/农产品检测温馨提示：
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