使用 ICP-OES 测定金属样品中的硅元素
2022-09-21909本文介绍了一种使用 ICP-OES 测定金属样品基体中，氢氟酸介质下硅元素的方法，采用了安捷伦无硅涂层的耐氢氟酸进样系统，克服了常规 ICP-OES 分析氢氟酸介质空白值高的缺点，获得了较低的空白值，适合于测定多种金属基体中不同含量范围的硅元素。
ICP-MS 在放射性药物分析中的应用
制药/生物制药检测
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食品/农产品检测
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农林牧渔检测
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食品/农产品检测
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环保检测
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环保检测
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