天津中环高真空CVD系统电炉是一家集研发、生产制造、营销服务为一体的的实验室电炉工作系统解决方案的提供者。作为实验室电加热设备的生产厂家，在实验室电炉行业国内市场一直保持着地位，并成为*品牌。

通过公司技术人员的开发，zui近研制出多套CVD系统，高真空CVD系统在碳纳米材料，真空镀膜领域广泛使用，PE获得客户广泛好评。

CVD系统产品的特点：
1 CVD系统兼容、常压、微正压多种主流的生长模式
2 CVD系统可以在1000Pa-0.1Pa之间任意气压下进行石墨烯的生长
3 CVD系统使用计算机控制，可以设置多种生长参数
4 CVD系统可以制备高质量，大面积石墨烯等碳材料，尺寸可达数厘米，研究动力学过程
5 CVD系统沉积效率高；薄膜的成分可控，配比范围大；厚度范围广，由几百埃至数毫米，可以实现厚膜沉积且能大量生产

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