植物冠层图像分析仪主要是用于分析植物冠层特点的仪器，其研究的内容主要是和光有关的，比如冠层光能资源调查，测量植物冠层中光线的拦截，研究作物的生长发育、产量品质与光能利用间的关系等。

 

植物冠层分析仪采用了冠层孔隙率与冠层结构相关的原理。它是根据光线穿过介质减弱的比尔定律，在对植物冠层定义了一系列假设前提的条件下，采用半理论半经验的公式，通过冠层孔隙率的测定，计算出冠层结构参数。采用的是对冠层下天穹半球图像分析测量冠层孔隙率的方法。

 

植物冠层分析仪广泛适用于农业、园艺、林业领域有关栽培、育种、 植物群体对比与发展的研究与教学中农作物、果树、森林内冠层受光状况的测量和分析。能测算植物冠层的太阳直射光透过率、天空散射光透过率、冠层的消光系数，叶面积指数和叶片平均倾角等。

 

植物冠层分析仪测量时需要考虑的影响因素：

 

1、斜坡的影响：应该使传感器保持与斜坡相匹配，而不是实际的水平。

 

2、样地尺寸：如果样地尺寸太小，要注意保证传感器的视野范围是冠层高度的3倍，可以采用去除第5个环的数据来解决这个问题，也可以采用观察帽的方法。

 

3、光线：直射的阳光：应尽可能避免直射的阳光，尽量在日出日落时或多云的天气进行测量，如果避免不了，那么需要注意：使用270度的遮盖帽或更小的视野遮盖帽；背对阳光进行测量，遮挡住日光和操作者本身；对植物冠层进行遮阴处理；天空云分布不均匀导致光线不均匀的天气条件：等待云彩飘过并遮挡了阳光时再进行测量。适宜光线条件：均匀的阴天或者散射光照下才能测量。zui易找到合适的测量时间往往是黎明之前和日落之后的瞬间。作为一般原则，如果可以看到地上的影子或者林冠上有阳光照射的叶子，这时的天空的光照条件就没有满足。

 

4、叶片与传感器的距离限制：一个叶片与传感器的距离是重要的，太近将导致测量的误差。简单的计算方法是根据采用的遮盖帽的角度来得到距离因子参数，再除以B值的重复次数，再乘以叶片的宽度，即得到zui小需要的距离了。如果距离无法缩小，可以考虑增加重复次数来解决这个问题。