快速加热高温真空炉HTFF1能够对样品快速加热,精确控制气体环境,是材料科学研究的快加热真空高温炉,它提供高达1500℃的材料热处理温度,并能将微小样品插入到恒温加热区快速加热,材料研究实验周期可以有效缩短。
快速加热高温真空炉HTFF1具有石墨或氧化铝可移动棒样品保持器,可用于在各种气体环境下操作以控制样品环境。

HTFF1样品棒中心可快速加热至900℃，稳定在在10%温度范围内。并且可提供在2分钟内亏啊苏加热到1200摄氏度，然后将温度降至900°C的模式

HTFF1采用同心套绝缘氧化铝/氧化硅管包含轴向取向的碳化硅硅碳棒发热。端部支撑法兰在较高的工作温度下水冷。氧化铝工艺室为客户提供洁净、干燥、可控的大气环境。稳定，可编程温度控制，可提供手动或自动系统。

其他尺寸可供选择。

HTFF1规格

优点

所有的电阻加热炉需要时间加热，从根本上限制样品的加热速率。TvU的快速炉插入样品已经成为一个热炉，实现较大可能的加热速度。只有辐射炉或燃烧炉才能提供有竞争力的加热速率。