2021年7月11日
2021年中国材料大会在厦门顺利闭幕。徕卡显微系统（简称“徕卡”）携全套制样解决方案亮相此会议，并在大会期间进行了学术分享，吸引众多参会者聆听，众多参会者对徕卡的前沿技术表现出极大的关注。

随着材料制作工艺日益精进，制造成本愈加昂贵，如何确保材料发挥最佳性能？高效的检测分析是至关重要的一个环节，徕卡高效高质的电镜制样整体解决方案将助您在内部结构的观察分析中获得真实的电镜结果。
没有出席材料大会的您也不用为错过精彩报告而失望，下面就和小编一起看看徕卡在材料制样中的应用吧！
# 芯片的电镜制样方法
在新能源和半导体材料在电镜研究中，如何定点加工出感兴趣位点、无损伤地暴露出真实的材料表面结构，一直是制样中的难点和重点。针对该领域样品不同的物理化学性质、多变的结构组成等特点，徕卡推出了“机械切割研磨---离子束切割---镀膜”、“机械切割研磨---离子束抛光---镀膜”、“超薄切片”等数种的制样流程，借此获得最真实的样品表面结构、成分信息。

# 材料平整断面制备方法
材料电镜制样方法多种多样，主要分为扫描电镜制样和透射电镜制样。
平整断面制备样品是扫描电镜观察样品内部结构信息的重要方法，我们根据材料结构和性质可制备均质和不均质的样品的平整断面，可以为多层的镀层结构多孔结构，软物质，硬材料制备平整断面等，凡是以固态形式存在的均可制备平整断面实现内部结构的研究。

# 徕卡电镜制样在新能源和半导体材料领域的应用
在新能源和半导体材料电镜分析中，如何定点暴露出最真实的材料表面结构，一直是制样中的难点和重点。针对该领域样品不同的物理化学性质、多变的结构组成等特点，徕卡推出了数种的制样流程，旨在帮助客户得到最真实的样品结构、成分信息。

徕卡精研一体机EM TXP以其多功能性可为电镜，原子力显微镜，光学显微镜，纳米压痕等制备平行度高的断面，也可为离子束，离子减薄等设备做前处理，实现高效互补的样品制备。

徕卡 EM TXP

徕卡三离子束设备EM TIC 3X是无应力加工的设备，可实现样品的无应力加工，金属，高分子，新能源材料等均可加工，不耐热的样品也可实现其冷冻的加工。

 徕卡 EM TIC 3X

徕卡EM ACE600是一款高真空镀膜仪，采用全无油真空系统，真空度可达2x10-6mbar。镀膜细腻均匀。内置石英膜厚监控器，可精确控制镀膜厚度。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。可选离子溅射镀膜功能，满足高分辨场发射扫描电镜需求，可选碳丝碳棒蒸发镀膜功能，用于X射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网喷碳膜。还可选择电子束蒸发镀膜，用于DNA投影等高级应用。

徕卡 EM ACE600

革新性的光学概念，克服了传统体视显微镜的固有局限性，拥有徕卡Fusion Optics融合光学技术。Leica M205 C是拥有20.5:1变倍比的体视显微镜，光学分辨率高达0 . 9 2 5 μ m ，内置可调双光阑，可调景深和分辨率。同时M205 C也是一款编码显微镜，可自动控制照明强度，可自动识别所采集的照片倍数，并加载相应倍数的比例尺。存储图像时，参数随同图像一起保存，以便随时调用。

徕卡 M205 C

为期3天的交流虽然结束，但徕卡致力于推动材料制样发展的激情和使命没有停止。每位徕卡人始终希望通过自己的不懈努力，持续为中国市场带来完善、先进的制样产品与服务。

让我们2022年在中国材料大会再见。