对流辐射温控系统

有多种对流辐射温控系统可供选择，能满足您对温度范围的要求。虽然通常使用CTD 600 TDR和CTD 450 TDR基本可以满足所有应用需求，但是CTD 180 是wei一一个基于 Peltier 技术的对流控温系统，无需使用液氮即可进行低温测量。 CTD 1000 温控设备主要用于玻璃或铝熔体等非聚合物样品。

CCD 数字眼摄像头

使用数字眼记录并显示图像或视频数据组，之后选择直接显示在图表中，并分配到其对应时间的测量点。

其他特性的测量

凭借 MCR 流变仪的 Toolmaster™ 功能（自动识别和配置所连接的设备）以及高精度法兰，该仪器可轻松快速地装配设备，例如用于对高性能塑料和润滑油进行摩擦分析的摩擦学系统，或者用于 SAXS 或 SALS 系统或介电谱-流变学设备等结构分析的光学测量系统或介电测量系统。

CTD 180 湿度附件

相对湿度影响样品的流变学和力学特性。CTD 180 对流控温设备的湿度选项，能够在控制温度和湿度的条件下进行流变测量和动态力学分析，可以用于防止样品干燥。该选项允许在受控湿度下研究材料的特性。

液氮蒸发控制单元

液氮蒸发控制单元 (EVU) 可准确控制温度（从 -160 °C 起），而无温度梯度。液氮在单独的储罐中被持续蒸发，并被传输至测量池中。这种持续蒸发无脉冲式控制，有利于的温度控制，这是电磁阀脉冲式控制无法达到的。