手动无接触硅片测试仪 SY.29-300

SY.29-300手动无接触硅片测试仪 SY.29-300

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2017-07-07 12:14:18
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产品简介

手动无接触硅片测试仪可以测量硅片厚度、总厚度变化 TTV 、弯曲度,该仪器适用于 Si , GaAs , InP , Ge 等几乎所有的材料,所有的设计都符合 ASTM( 美国材料实验协会 ) 和 Semi 标准,确保与其他工艺仪器的兼容与统一。

详细介绍

 

手动无接触硅片测试仪
型号SY.29-300
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简介手动无接触硅片测试仪可以测量硅片厚度、总厚度变化 TTV 、弯曲度,该仪器适用于 Si , GaAs , InP , Ge 等几乎所有的材料,所有的设计都符合 ASTM( 美国材料实验协会 ) 和 Semi 标准,确保与其他工艺仪器的兼容与统一。



手动无接触硅片测试仪 - 产品特点

无接触测量
适用的晶圆材料包括Si,GaAs,InP,Ge等几乎所有的材料
厚度和 TTV 测量采用无接触电容法探头
高分辨率液晶屏显示厚度和 TTV 值
性价比高
菜单式快速方便设置
高分辨率液晶 LCD 显示
提供和计算机连接的输出端口
提供打印机端口
便携且易于安装
为晶圆硅片关键生产工艺提供精确的无接触测量
高质量微处理器为精确和重复精度高的测量提供强力保障
高质量 聚四氟乙烯晶圆测试架,为晶圆硅片精确定位提供保障



手动无接触硅片测试仪 - 技术指标

晶圆硅片测试尺寸: 50 mm - 300mm.
厚度测试范围: 1000 u m , 可扩展到 1700 um.
厚度测试精度: +/-0.25um
厚度重复性精度: 0.050umm

TTV 测试精度 : +/-0.05um
TTV 重复性精度 : 0.050um

弯曲度测试范围: +/-500um [+/-850um]
弯曲度测试精度: +/-2.0umm
弯曲度重复性精度: 0.750umm

晶圆硅片导电型号: P 或 N 型
材料: Si , GaAs , InP , Ge 等几乎 所有半导体材料
可用在: 切片后、磨片前、后, 蚀刻,抛光 以及出厂、入厂质量检测等
平面 / 缺口:所有的半导体标准平面或缺口
硅片安装:裸片,蓝宝石 / 石英基底, 黏胶带
连续 5 点测量



手动无接触硅片测试仪 - 应用范围

> 切片
  >>线锯设置
    >>>厚度
    >>>总厚度变化TTV
  >>监测
    >>>导线槽
    >>>刀片更换
>磨片/刻蚀和抛光
  >> 过程监控
  >> 厚度
  >>总厚度变化TTV
  >> 材料去除率
  >> 弯曲度
  >> 翘曲度
  >> 平整度
> 研磨
  >> 材料去除率
> zui终检测
  >> 抽检或全检
  >> 终检厚度

 

 

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