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Munsell土壤防水比色卡|门塞尔植物组织比色卡岩石比色卡||门塞尔土壤比色卡
面议综合波雷击浪涌发生器 型号:ZH2957
面议同轴衰减器 型号:ZH2987
面议便携式BOD快速测定仪/化学需氧量测定仪 美国型号:ZH3986
面议便携式本安型露点仪|台式露点仪
面议肖氏露点仪 英国
面议液化气采样钢瓶/液化石油气采样器/采样钢瓶 型号:ZH4000
面议红外分光测油仪/红外测油仪 型号:ZH4007
面议可见分光光度计(样品池100) 型号:ZH4017
面议馏分燃料油氧化安定性测定仪( 加速法六孔位) 型号:ZH4036
面议红外线气体分析仪/氮氧化合物测定仪型号:ZH4041
面议自动调压型直流微型隔膜水泵螺纹接口/微型隔膜泵(溢压回流型) 型号:ZH4059
面议射频磁控溅射镀膜装置 型号:ZH5493 | 货号:ZH5493 |
产品简介 主要由溅射镀膜室、真空抽气系统、气源进气调节系统、衬底加热温度控制系统、射频电源等部分组成。由于磁控溅射能够地控制参数和提高膜层附着力、密度及均匀性,已成为沉积薄膜的重要方法,射频磁控溅射具有沉积速率高,可以溅射材料,包表面粗糙度样板 括导体、半导体和介质材料等特点。由于在低气压下溅射,因此膜层致密、针孔少、度高。 可开设的实验 1、掌握射频磁控溅射法制膜的基本原理; 2、了解磁控溅射镀膜仪的操作过程及使用范围; 3、磁控溅射法制备金属膜、半导体膜、化合物膜、介质膜等薄膜。 主要参数 1、溅射镀膜室:由不锈钢底与玻璃钟罩组成;尺寸:Φ220×H230mm3; 2、溅射镀膜室本底真空:≤1Pa;溅射腔限真空:6×10-1Pa; 3、溅射靶:Φ50烧结车扫描测温云台mm,溅射靶台和溅射靶可调距离:20~60mm; 4、基片加热温度可控范围:室温~300℃; 5、射频源功率:500W,13.56MHz; 6、气路系统:由两路转子流量计控制(可选配流量计); 7、真空系统:2XZ-4型旋片真空泵,抽气速率:4L/S,单相220V交流电源供电; 8、对过流过压、断路等异常情况进行报警,并执行相应保护措施; 9、供电电源:AC220V,50Hz,整机功率2KW。 www.ghitest.com |