[报告简介]

无掩膜光刻技术因摆脱了掩膜板的束缚，可以高效快速地开发各类生物学和医学器，正逐渐成为各类研发机构主要的光刻设备。与传统掩膜版技术相比，无掩膜曝光技术具有高分辨、高对准精度、简易操作等诸多优势，能够轻松实现微米、亚微米级精度的光刻、套刻。配合各类标准微加工工艺，能够方便快捷地实现各类生物芯片器件的制备。在本报告中，将重点介绍无掩膜光刻技术前沿进展，结合来自国内外科研单位在国际期刊发表的研究成果，探讨无掩膜光刻技术在生物和医学领域的应用。

[直播入口]

欢迎您扫码下方二维码预约本次讲座，无需注册！

扫描上方二维码，即刻预约本次讲座！

[报告时间]

开始  2022年12月21日  14:00

结束  2022年12月21日  14:30

[主讲人介绍]

喻博闻 博士

喻博闻博士，毕业于澳大利亚昆士兰大学机械与矿业学院，博士期间研究方向为微纳机电器件中的界面问题，以及微纳尺度操纵和加工技术。现于Quantum Design中国子公司表面光谱部门，负责微纳加工和表征相关产品在全国的应用开发、技术支持及市场拓展工作。

相关产品

1、小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3