超纯水是电阻率达到18MΩ*cm(25℃)的水。常用于集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。

　　超纯水处理，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，

　　纯水和超纯水的水质标准

　　1、避免使用没有循环回路的超纯水，以减少因物料析出和细菌生长造成的污染。

　　2、持续的循环，才能保证高品质的纯水和超纯水。

　　3、用来储存纯水的水箱应配备无菌排气过滤器、活性炭、二氧化碳吸附剂和潜水式紫外灯，只有使用这些组件，才能保持水质持续在较高的水平。

　　4、合理的消毒程序可以减少生物膜的形成，应保持良好的定期消毒的习惯。

　　5、为了防止藻类的繁殖，水箱不能为透明材料制成，或应该防止在避光的柜子内，避免阳光直射。

　　6、使用析出率较低的材料，如：聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)和聚四氟乙烯。当必须要使用不锈钢时，应使用1.440l(304L，316L)或者更高级别。

　　7、纯化模块应当定期更换，以保证持续的高水质，并尽量减少可能的细菌污染。

　　8、应该避免纯水循环中的死角和死水区域，在闲置后的每次最初启用时，应至少排掉0.3-3L体积的初始水，这种方法在一些关键应用上尤为重要，例如HPLC,ICP/MS。

　　9、为保证纯水设备的最佳运行状态，保证出水水质，设备应具有定期维护和定期服务的提示程序，或额外起草维保服务的协议。

　　10、任何纯水设备的排水口都应包含空气阀，以防止污染。另外需要保证排水管的末端和下水道之间至少有5cm的间隙。