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激光捕获显微切割显微镜
激光捕获显微切割显微镜是一种集成了激光技术和显微观察技术的先进仪器，它主要用于在显微镜下对特定的细胞或组织进行精确的切割和分离。这种显微镜在生物学、医学以及农业等领域有着广泛的应用。 参考价￥350000 -
便携式样品传送腔体
便携式样品传送腔体是一种专门设计用于在超高真空环境中传送和处理样品的设备。这种设备通常包括一个或多个关键组成部分，如连接真空计的接口、反射式光电阴极入射光导入口、样品加热装置、进样装置、样品传递机构等。 参考价面议 -
全金属密封磁控溅射靶枪
全金属密封磁控溅射靶枪是一种用于磁控溅射技术的设备，主要由金属制成的密封容器和靶材组成。这种设备广泛应用于各种薄膜制备工艺中，如光学薄膜、电子薄膜、磁性薄膜等。 参考价面议 -
定制样品传送腔体
定制样品传送腔体，首先需要明确你的具体需求，例如腔体的尺寸、材质、功能等。然后，你可以联系专业的制造商或供应商，向他们提供你的需求，让他们为你设计和制造符合要求的样品传送腔体。 参考价面议 -
4/6英寸辐射式样品台系统
4/6英寸辐射式样品台系统”可能指的是一种用于实验或研究的设备或组件，特别是在材料科学、物理学、工程学或其他需要精确控制和分析样品的环境中的设备。 参考价面议 -
超高真空磁控溅射外延系统
超高真空磁控溅射外延系统是一种先进的薄膜制备设备，结合了超高真空技术和磁控溅射技术，用于在衬底上外延生长高质量的薄膜材料。 参考价面议 -
插拔式加热器沉积系统
插拔式加热器沉积系统是一种方便、实用的加热设备，广泛应用于各种工业和商业领域。这种加热器通常具有紧凑的设计，可以方便地插入到电源插座中，提供快速、高效的加热功能。 参考价面议 -
脉冲激光沉积样品台
脉冲激光沉积样品台是一种物理气相沉积技术，用于在衬底上生长高质量的薄膜。脉冲激光沉积系统中的样品台是一个关键组件，用于支撑和加热待沉积的样品。 参考价面议 -
脉冲激光沉积靶台
脉冲激光沉积靶台的设计和应用对于脉冲激光沉积系统的性能和实验结果具有重要影响。通过综合考虑稳定性、热隔离、灵活性、靶材均匀性、冷却机制以及靶材旋转等因素，可以设计出更加先进、高效和稳定的靶台，以满足不同领域和应用的需求。 参考价面议 -
脉冲激光沉积系统激光光路
脉冲激光沉积系统激光光路是一个高度复杂和精密的系统，需要各个部分的紧密配合和精确控制，才能制备出高质量的薄膜。同时，随着科技的发展，脉冲激光沉积技术也在不断地进步和优化，为薄膜科学和工业应用提供了强大的支持。 参考价面议 -
单腔体脉冲激光沉积系统
单腔体脉冲激光沉积系统是一种先进的材料制备技术，它利用脉冲激光的高能量密度来蒸发和电离靶材上的物质，并在基底上沉积形成各种物质薄膜。这种系统通常包括一个沉积室，其中激光聚焦于靶材上的一个小面积，使其材料蒸发或电离并向基底运动。基底通常保持在较低的温度，以便在沉积过程中形成高质量的薄膜。 参考价面议 -
双腔体脉冲激光沉积系统
双腔体脉冲激光沉积系统（Dual Chamber Pulsed Laser Deposition System）是一种先进的薄膜制备技术，它结合了脉冲激光沉积（PLD）技术和双腔体设计的优势。这种系统通常用于在实验室环境中生长高质量的薄膜材料，广泛应用于物理、化学、材料科学和工程等领域。 参考价面议