WH81涂层测厚仪校准方法

WH81涂层测厚仪校准方法。为使测量准确，应在测量场所对仪器进行校准。
1 校准标准片(包括箔和基体)
已知厚度的箔或已知覆盖层厚度的试样均可作为校准标准片。简称标准片。
a) 校准箔
对于磁性方法， “箔”是指非磁性金属或非金属的箔或垫片。对于涡流方法，通常采用塑料箔。 “箔”有利于曲面上的校准，而且比用有覆盖层的标准片更合适。
b) 有覆盖层的标准片
采用已知厚度的、均匀的、并与基体牢固结合的覆盖层作为标准片。对于磁性方法，覆盖层是非磁性的。对于涡流方法，覆盖层是非导电的。
2 基体
a)对于磁性方法，标准片基体金属的磁性和表面粗糙度，应当与待测试件基体金属的磁性和表面粗糙度相似。对于涡流方法，标准片基体金属的电性质，应当与待测试件基体金属的电性质相似。为了证实标准片的适用性，可用标准片的基体金属与待测试件基体金属上所测得的读数进行比较。
b) 如果待测试件的金属基体厚度没有超过表一中所规定的临界厚度，可采用下面两种方法进行校准：
1) 在与待测试件的金属基体厚度相同的金属标准片上校准;
2) 用一足够厚度的，电学性质相似的金属衬垫金属标准片或试件，但必须使基体金属与衬垫金属之间无间隙。对两面有覆盖层的试件，不能采用衬垫法。
c) 如果待测覆盖层的曲率已达到不能在平面上校准，则有覆盖层的标准片的曲率或置于校准箔下的基体金属的曲率，应与试样的曲率相同。
3 校准方法
本仪器有三种测量中使用校准方法: 零点校准、二点校准，还有一种针对测量头的六点修正校准。本仪器的校准方法是非常简单的。
3.1 零点校准
a) 在基体上进行一次测量，屏幕显示<×.×µm>。
b) 按 ZERO 键，屏显<0.0>。校准已完成，可以开始测量了。
c) 重复上述 a、b 步骤可获得更为的零点，高测量精度。零点校准完成后就可进行测量了。注：本仪器提供负数显示，为用户更方便的选择零点。
3.2 二点校准
这一校准法适用于高精度测量及小工件、淬火钢、合金钢。
a) 先校零点(如上述)。
b) 在厚度大致等于预计的待测覆盖层厚度的标准片上进行一次测量，屏幕显示<×××µm>。
c) 用▲、▲、键修正读数，使其达到标准值。校准已完成，可以开始测量。
注：在仪器校准时，单次按将跳动一个数，长按不松开，将连续跳动要修正的值。
4 六点修正校准
在下述情况下，改变基本校准是有必要的:
测量头顶端被磨损、新换的测量头、特殊的用途。
在测量中，如果误差明显地超出给定范围，则应对测量头的特性重新进行校准称为基本校准。通过输入 6 个校准值(1 个零和 5 个厚度值)，可重新校准测量头，具体操作方法如下：
a) 在仪器开启的状态下，按顺序连续、快速按下以下按钮，即可进入六点修正校准;
b)先校零值。在六点修正校准界面的*个界面，测一下没有任何涂层的基体，然后按 ZERO 键，屏幕中的 ADJ 显示 0.0µm，按 进入下一点的校准;
c)校准仪器自带校准片，把 50µm 的放到基体上，测一下 50µm 的厚度，测出来的(ADJ)数与校准片的值不符按? ?调整到与校准片的值一样(如50µm 测出来是 54µm 按?调整到 50µm)， 然后按 进入下一点校准,接着用相同的校准方法依次校准 100μm、250μm、500μm、1000μm 校准膜片;
d)6 点数据调整完之后，会出现对话框询问是否保存，按 确认保存;
e)若使用其他膜片标准，须按厚度增加的顺序，一个厚度上可做多次。每个厚度应少是上一个厚度的 1.6 倍以上，理想情况是 2 倍。例如: 50、100、250、500、1000μm。 大值应该接近但低于测量头的 大测量范围;
注意: 每个厚度应少是上一个厚度的 1.6 倍以上，否则视为基本校准失败，后面一个点必须大于 500μm