等离子清洗机能去除材料表面物、颗粒、脏污物、氧化物、有机物，增加洁净度、提升亲水性、增强粘贴力

等离子清洗机在光电及电子行业的应用

各种玻璃表面清洗，提高玻璃表面亲水性，优化玻璃镀膜、印刷、粘合及喷涂；

钢化膜喷涂前、3D玻璃表面、建筑玻璃、仪表仪器、玻璃镀膜前采用等离子清洗机提高表面洁净度；

玻璃表面的防指纹、喷指纹油采用等离子清洗机AF镀膜防指纹前处理

化妆瓶表面印刷、喷涂前采用等离子清洗机处理提高瓶身表面附着力；

柔性和非柔性印刷电路板触点采用等离子清洗机清洁、LED荧光灯“触点”清洁及提高表面点胶的牢固性；

电子元件加工采用等离子清洗机进行预处理、PCB清洗、去静电、LED支架、IC等表面清洁及粘接等作用；

等离子清洗机用于手机按键和笔记本键盘粘接、手机外壳和笔记本外壳的涂装

等离子清洗机用于LCD柔性薄膜电路贴合，由于等离子体是电中性的，因此在处理时不会损伤保护膜、ITO膜层和偏振滤镜。等离子清洗机处理过程可以“在线”进行，并且无需溶剂，因此更加环保

等离子清洗机能去除光刻胶、电路板去胶，提升材料表面的亲水性、附着力、粘接力

等离子清洗机在去除光刻胶方面的具体使用：等离子清洗机的应用包括预处理、灰化/光刻胶/聚合物剥离、晶圆凸点、消除静电、介电质刻蚀、有机污染去除、晶圆减压等。使用等离子清洗机不仅能*清除光刻胶等有机物，还能活化加粗晶圆表面，提高晶圆表面的浸润性，使晶圆表面更加具有粘接力。

晶圆光刻蚀胶等离子清洗机与传统设备相比较，有很多优势，设备成本不高，加上清洗过程气固相干式反应，不消耗水资源，不需要使用价格较为昂贵的有机溶剂，这使得整体成本要低于传统的湿法清洗工艺。此外，等离子清洗机解决了湿法去除晶圆表面光刻胶反应不准确、清洗不*、易引入杂质等缺点。不需要有机溶剂，对环境也没有污染，属于低成本的绿色清洗方式

作为干法清洗等离子清洗机可控性强，一致性好，不仅*去除光刻胶有机物，而且还活化和粗化晶圆表面，提高晶圆表面浸润性

晶圆清洁-等离子清洗机用于在晶圆凸点工艺前去除污染，还可以去除有机污染、去除氟和其它卤素污染、去除金属和金属氧化。

等离子清洗机对材料表面的刻蚀作用–物理作用：

等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。

等离子清洗机用于刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。广泛用于真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域。ICP硅刻蚀、CCP介质刻蚀、金属刻蚀，实现各向异性刻蚀，保证细小图形转移后的保真性