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HW.SY11-KP3三孔三温水浴锅技术简介

时间:2023-12-21      阅读:520

HW.SY11-KP3三孔三温水浴锅技术简介:HW.SY11-KP3适用范围:本产品、科研单位、实验室蒸馏、浓缩干燥及恒温加热化学品、生物制品、检查血清和生化实验,恒温培养以及对注射器和小型手术器械进行煮沸消之用

适用范围

本产品、科研单位、实验室蒸馏、浓缩干燥及恒温加热化学品、生物制品、检查血清和生化实验,恒温培养以及对注射器和小型手术器械进行煮沸消之用。

HW.SY11-KP3三孔三温水浴锅技术简介技术参数

型号:HW.SY11-KP3(三孔三温)

规格:智能

功率:900W

控温范围:室温+5℃~99.9℃

水温波动性、水温均匀性:≤±0.5℃

水槽尺寸(mm):(150×140×90)×3

特点

   产品的内胆、外壳均采用优质不锈钢拉丝板材,温控系统采用微机PID智能控制,感热性能强、灵敏度高、水温波动性、水温均匀性在±0.5℃范围内



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