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双靶高真空磁控溅射仪 | VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。 | ||
主 要 特 点 | •体积小,操作简便 | |||
基 本 参 数 | ●输入电源:220V AC 50/60Hz | 真空腔体: ●真空腔体:φ300 mm x 300 mm H,采用不锈钢制作 气体流量控制器: ●仪器内部安装有2个质量流量计,量程为:0-100sccm 真空系统: ●配有一套GZK-103D分子泵系统(德国制作) 薄膜测厚仪(可选): ●一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å 产品尺寸:L 1300mm× W 660mm× H 1200mm 净重:160 kg | ||
磁控溅射头: ●仪器中安装有2个2英寸磁控溅射头,而且都带有水冷夹层
载样台: ●载样台尺寸:φ140mm(最大可放置4"的基底) |